Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9237166 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8
ID: 9237166
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
(2) Coater / (3) Developer system, 8" R-Type Inline type Hard Disk Drive (HDD) (4) Loaders (2) Blocks (2) Adhesion (ADH) process stations (12) Low temperature Hot Plate (LHP) stations (2) High temperature Hot Plate (HHP) Process stations (8) Chilling Plate (CPL) Process stations (4) Chilling Hot Plate (CHP) Process stations (2) Shuttle (SHU) Modules (2) Cup Washer Holder (CWH) Units (4) Transition Stage Units (TRS) Coat process station (COT): (3) Nozzles RRC Pump Solvent automatic supply: 3L (2) Buffer tanks Side rinse (EBR) (2) Back Side Rinses (BSR) Develop process station (DEV): Single nozzle H Nozzle Solution automatic supply: 3L (2) Buffer tanks (2) Rinse nozzles (2) Back side rinses IFB EIS Type: ASML WEE AC Power box Chemical box Temperature controller T&H: KOMATSU 1821 MFC 1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance développé par TEL, un fabricant leader d'équipements de fabrication de circuits intégrés (IC). TEL Clean Track ACT 8 dispose d'un système de contact à quatre points et d'une procédure de nettoyage à faible angle haute performance. Afin de maintenir le niveau le plus élevé de produits de fabrication de photolithographie, TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 contribue à maintenir une surface de substrat propre, tout en assurant une résistance stable et fiable à la croissance. Clean Track ACT 8 est conçu pour améliorer les couches de photolithographie des microprocesseurs et autres capteurs IC, en fournissant une haute précision, haute résolution. Pour ce faire, la machine utilise deux composants principaux : un pas optique et une source de lumière ultraviolette (UV). Le pas optique est constitué de deux miroirs et lentilles qui créent le motif souhaité pour le dépôt de la résine photosensible sur le substrat. La source de lumière UV fournit un éclairage uniforme du substrat. L'outil fournit une procédure de nettoyage à faible angle, ce qui garantit que les contaminants de surface n'interfèrent pas avec les couches de photolithographie. Il peut nettoyer la surface même au stade le plus critique, lors de la formation des couches de fixation. La procédure de nettoyage à faible angle de TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 aide à éliminer les particules, les adsorbats et d'autres matériaux qui pourraient autrement causer des défauts. L'actif de contact à quatre points TEL Clean Track ACT 8 aligne le substrat sur les fentes de précision du pas optique. Le modèle utilise un équipement d'alignement de précision pour aligner avec précision le substrat sur les composants optiques en mouvement afin de réaliser une modélisation précise du film de résine photosensible. Ceci assure une application régulière et radiale du film sur le substrat. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 surveille en permanence tous les niveaux d'opérations et tous les paramètres, garantissant ainsi une résistance constante et répétable à l'épaisseur. Cela permet d'assurer un rendement amélioré et des résultats de fabrication sans défaut. Clean Track ACT 8 est une méthode puissante de dépôt de résines photosensibles pour la fabrication d'IC. Il permet de maintenir la propreté des substrats et d'assurer une résistance stable et fiable à la croissance tout en offrant des propriétés de haute résolution avec des défauts minimes.
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