Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9245118 à vendre en France
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ID: 9245118
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2002
(4) Coater / (4) Developer system, 8"
(2) Chemical cabinets: Solvent and developer
(2) SMC Thermo controllers: HMDS, PR
YEST YIB-TP23 T and H Controller
AC Power box
MFC: 4-Ports
Right to left
Wafer type: Notch, DUV type
DUV Type
25-Slots
Loading configuration: (4) Loader uni-cassettes
Carrier station:
Type: Normal uni-cassette
(4) Cassette stages
Pick-up cassette
Uni-cassette system
Coater unit (2-1, 2-2, 2-3, 2-4 Module):
(4) Dispense nozzles
With temperature controlled lines
RDS Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath
Rinse system: 3 Liters (2) buffer tank systems
PR Such-back valve type: AMC Suck-back valve
Programmable side rinse
Direct drain
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Module):
H Nozzle
(2) Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse / Unit
Developer system: 3 Liters (2) buffer tank systems
Developer temperature control system
Direct drain
(2) Adhesion units:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
Interface type: ASML
(3) High temperature hot plates
(15) Low temp hot plates
(10) Chill plates (CPL)
(4) Precision Hot Plate (PHP) process station
(3) TRS Modules
TCP Module
Wafer Edge Exposure (WEE) module
(2) TEL / TOKYO ELECTRON Temperature control units
Main controller missing
Power: AC 208 V, 3-Phase
2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement photorésist complet conçu pour fournir des capacités de traitement de pièces lithographiques de précision avec une productivité élevée, une précision de recouvrement exceptionnelle et une excellente répétabilité. Le système dispose d'un module de procédé SIMOX pour le développement à sec de couches de résines, ainsi que des ajouts modulaires pour les besoins de traitement des plaquettes et des semi-conducteurs à plus grande échelle. L'unité est conçue comme un procédé monocouche, qui permet une tenue en charge simple et efficace. Il dispose d'un étage X-Y contrôlé de précision, associé à un moniteur de résistance innovant pour réduire le bruit et améliorer les performances. La machine dispose également d'un module de traitement Triple-Exposition qui fournit une meilleure définition des bords et la précision des bords car elle applique une série d'expositions avec des temps d'intervalle réglables. L'outil utilise des techniques avancées de contrôle de processus pour assurer une précision maximale à des niveaux de consommation de photorésist faibles. Son moniteur de processus propriétaire La Ra Revolution surveille également l'exécution en temps réel, permettant des solutions correctives rapides si nécessaire. Cela permet d'assurer l'uniformité des résultats même lorsque les conditions du processus varient. L'actif dispose également d'un logiciel PROM (photorésistance module d'optimisation) propriétaire pour l'utilisation dans la fenêtre SEM et OPC. Ce logiciel permet de calculer avec précision les conditions optimales pour chaque type de structure, ce qui permet de fabriquer des pièces à plus haute résolution avec moins d'erreurs. Le modèle ajoute également une commodité supplémentaire avec la configuration et l'installation de l'équipement flexible sur la piste propre. Il est ainsi facile de l'adapter à une série de besoins de production. En résumé, TEL Clean Track ACT 8 est un système photorésist complet qui fournit aux utilisateurs une précision de recouvrement exceptionnelle et une excellente répétabilité, tout en offrant une installation facile et une personnalisation de l'unité flexible. La machine offre un contrôle avancé des processus, une meilleure définition des bords et une optimisation des pièces assistées par logiciel pour améliorer la résolution-tout tout en maintenant les niveaux de consommation photorésist bas.
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