Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9248792 à vendre en France
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ID: 9248792
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Direction: Right to left
(25) Slots
(4) Uni-cassette loaders
Main controller: Type 2
CSB
PRB1
IFB
Power box
T&H Controller
Chemical box
Thermo controller
Main system:
Main frame with system controller
Carrier station:
Type: Normal uni-cassette
(4) Cassette stages
Pick-up cassette
Uni-cassette system
Coater unit (2-1, 2-2):
(4) Dispense nozzles with temperature controlled lines for etch unit
RRC Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse system: 3 Liters (2) Tanks buffer tank system
P.R Suck-back valve type: Air operation suck-back valve
Programmable side rinse
Drain: Direct drain
Developer unit (2-3, 2-4):
Steam nozzle for each unit
(2) Stream nozzles for DI rinse and 2-points for back side rinse on each unit
Developer system: 3 Liters (2) tanks buffer tank system
Developer temperature control system
Drain: Direct drain
Interface type: ASML
(8) Low temperature hot plates (LHP)
(4) Chill plates (CPL)
(4) Chilling hot plate process stations (CHP)
TCP Module
(2) TRS Modules
WEE (wafer Edge Exposure) Module
Wafer type: Notch
Chemical cabinet
TEL / TOKYO ELECTRON Temperature Control Unit (TCU)
AC Power box
Missing parts:
2-5, 2-17 ADH Module assemblies
Circulator pump
IRA T Axis motor driver
WEE CCD Board
WEE X Axis motor driver
(2) 2-2 COT P.R Pumps
(2) Developer buffer tanks
2-2 Spin chuck
T&H Controller
Main controller hard disk
System power rating: AC 208V, 3-Phase
1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance avancé pour le traitement des semi-conducteurs. Il est conçu pour fournir des performances supérieures dans les processus de fine ligne difficiles, en particulier dans les nœuds de processus avancés 14nm et inférieurs. TEL Clean Track ACT 8 est capable de fonctionner à des vitesses allant jusqu'à 8,4 m/s, tout en maintenant un dépôt de couche uniforme sur toute la surface d'un substrat. Son système de distribution avancé est doté d'une technologie à gaz liquide (LGT) modifiée qui assure un dépôt de film uniforme sur toute la surface de la plaquette. La LGT permet également une taille de bande morte plus petite, tout en améliorant le débit du processus. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 propose également une nouvelle technologie de distribution CozFlow qui utilise une buse spéciale pour contrôler précisément la quantité de distribution et la direction d'écoulement de la résine photosensible. Ceci permet une plus grande précision dans le dépôt de film. Les performances de Clean Track ACT 8 peuvent être encore améliorées par l'utilisation de l'optionnel Clean Track Precision Point Laser Unit. Cette machine laser propriétaire offre une précision et une uniformité améliorées dans l'application de films photorésistants sur des surfaces de plaquettes au moyen d'un laser à l'état solide qui est ajusté pour obtenir les paramètres de résistance désirés. Les résultats obtenus à partir de cet outil sont supérieurs à ceux obtenus avec les techniques classiques de lithographie optique. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 dispose d'un outil de nettoyage automatisé avancé qui permet une gravure de contraste élevé. Ce modèle de nettoyage est conçu pour éliminer les résidus de tout produit chimique utilisé dans le processus de fabrication et préparer la plaquette pour un traitement ultérieur. TEL Clean Track ACT 8 dispose également d'un certain nombre d'autres fonctionnalités qui en font une solution idéale pour les procédés semi-conducteurs avancés. Il s'agit notamment d'un moniteur de processus intégré en temps réel qui montre l'évolution de la fabrication de la plaquette, d'un écran tactile facile à manœuvrer et de la capacité d'ajuster la largeur du film de résistance pour tenir compte de la taille de motif souhaitée. Les caractéristiques avancées de TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 en font une solution idéale pour des procédés de fabrication de semi-conducteurs complexes et précis, en particulier pour les noeuds avancés de 14nm et inférieurs. En utilisant Clean Track ACT 8, les ingénieurs et les techniciens sont en mesure de modeler leur conception avec précision et uniformité, tout en obtenant des résultats cohérents.
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