Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9281143 à vendre en France

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TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8
Vendu
ID: 9281143
System, 8" Main controller Process type: DUV, Arf, Krf Cassette block: 4-Stage Process block: Dual block Interface block: WEE SHU IRA Spinner units: Unit / Nozzle quantity / Pump / Nozzle type 2-1 COT / (3) / RRC 2-2 COT / (3) / RRC 3-1 DEV / (1) / H Nozzle 3-2 DEV / (1) / H Nozzle 3-3 DEV / (1) / H Nozzle Bake units: (8) CPL (4) CHP (12) LHP (2) ADH (4) TRS (2) HHP Chemical supply: Thinner chemical supply: CCSS, (2) Buffer tanks Dev solution supply: CCSS, (2) Buffer tanks HMDS Chemical supply: CCSS, (2) Buffer tanks Coat drain type: Direct drain type Dev drain type: Direct drain type Sub-module: TEL AC Power box Cup temperature / Humidity TEL Chemical cabinet (2) SMC Temperature Control Units (TCU) Missing parts: Temperature / Humidity Oven cover IRA Theta driver IRA Z Driver IRA Z Motor 1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement photorésistant fabriqué par TEL (TOKYO ELECTRON Limited), un important fabricant d'électronique basé au Japon. Le système est conçu pour être utilisé dans les installations de fabrication de semi-conducteurs pour fabriquer des produits de wafer avec des caractéristiques inférieures à 10nm. Cette unité est une machine de photorésistance « à exposition unique », c'est-à-dire qu'elle expose la plaquette avec une dose unique de lumière ultraviolette (UV), ou « flash », ce qui la rend idéale pour le traitement de dispositifs à plus petite échelle. L'outil TEL ACT 8 combine une source lumineuse très stable, un étage de plaquette de type pas à pas et des systèmes optiques et optiques associés pour exposer avec précision la plaquette avec de la lumière UV. L'ordinateur hôte de l'actif permet de gérer le processus de sélection exposé. En utilisant le modèle TOKYO ELECTRON ACT 8, plusieurs couches de photorésist peuvent être utilisées pour créer les conceptions de circuits souhaitées sur la plaquette. La résine photosensible sert de masque de gravure pour créer le dispositif final, empêchant certaines parties de la plaquette d'être exposées au processus de gravure. L'équipement dispense et fait cuire automatiquement la résine photosensible avant de l'exposer, ce qui permet un traitement rapide. Une fois le processus de gravure désiré terminé, la plaquette est alors prête pour le processus de gravure. Le système utilise typiquement une gravure à une seule trappe, où le gaz d'attaque est utilisé pour réactiver les molécules de la couche à graver et créer un motif dans le silicium en dessous. L'unité TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 permet également la gravure multicouche, où plusieurs couches de résine photosensible sont utilisées afin de produire des caractéristiques plus petites et des conceptions plus délicates. La machine est très fiable, et sa source lumineuse et optique ont une longue durée de vie. De plus, l'outil utilise des lasers et des logiciels pour assurer une exposition très précise et même photorésist. Les capacités de traitement parallèle de l'actif ACT 8 lui permettent de traiter rapidement plusieurs couches de motifs photorésistants compliqués afin d'assurer des circuits intégrés de haute qualité mieux que jamais pensé. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON ACT 8 photorésist modèle est un équipement de photorésistance à exposition unique très précis, conçu pour la fabrication rapide de circuits intégrés avancés. La source lumineuse et l'optique fiables du système, ainsi que ses capacités de gravure à une et plusieurs trappes, en font un choix idéal pour les installations de fabrication de semi-conducteurs.
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