Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9355794 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance pour les procédés avancés de photolithographie. C'est un système de premier plan, utilisant les dernières technologies pour produire des processus de photolithographie propres, précis et précis. L'ACT 8 peut traiter n'importe quel type de photomasque avec des couches de résistance de 50nm jusqu'à deux microns d'épaisseur, et supporte les tailles de fonctionnalités jusqu'à 0,25 microns. L'unité fournit une précision allant jusqu'à 0,15 microns, permettant la production de motifs en trait fin avec des bords propres. La machine utilise des expositions à la projection laser, des processus d'ablation et de multiples options pour les gravures de couvertures et les revêtements liquides. La voie optique utilise des lentilles à éclairage spatial NA élevé qui utilisent des caractéristiques d'éclairage breveté pour des taches d'éclairage aussi petites que 0,15 microns. L'outil laser peut fournir une gamme d'expositions ultra-haute intensité ou surcharger des expositions séquentielles multiples avec des niveaux d'énergie variables pour produire des motifs précis. L'actif utilise également des paramètres spéciaux pour façonner le profil d'exposition du faisceau laser, ce qui lui permet d'exposer et de graver le photomasque sans frotter le motif d'exposition. Le modèle de photorésist TEL Clean Track ACT 8 utilise également un procédé de revêtement liquide à flux contrôlé pour améliorer l'uniformité des couches de photorésist. Le procédé de revêtement liquide comprend des paramètres pour contrôler la viscosité et le temps d'exposition ainsi que le contrôle de la température pour améliorer l'uniformité et la précision. L'équipement utilise même un implant ionique pour améliorer l'adhérence et les dimensions des motifs. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 présente des capacités de contrôle informatique central et de surveillance avancée des processus. Le système comprend également de vastes bases de données de paramètres pour un contrôle précis des processus, ainsi que des capacités d'enregistrement pour le RCP. L'unité a été conçue avec un concept de processus modulaire pour un entretien facile, et est protégée contre la poussière et les composés chimiques pour l'intégrité de la machine. Dans l'ensemble, Clean Track ACT 8 est la solution idéale pour les processus de photolithographie avancés qui nécessitent précision et précision.