Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro #293802324 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus Pro est un équipement de photorésistance avancé pour la fabrication de circuits intégrés haute performance (IC) avec des géométries plus petites. Il dispose d'un système de projection optique laser haute résolution et d'un logiciel spécialisé pour la formation de masques critiques. L'unité photorésist est conçue pour produire des motifs semi-conducteurs rapidement et avec précision. Il fonctionne en projetant une conception de masque sur un masque IC qui a été revêtu d'une substance chimique photorésistante. Une source lumineuse excite la substance chimique photorésistante, la faisant durcir dans les zones exposées à la lumière. Les zones non exposées restent sous forme liquide, ce qui permet à un développeur de laver ces zones pour créer des caractéristiques précises. La machine peut facilement produire des caractéristiques aussi petites que 24nm, ce qui la rend particulièrement adaptée à la fabrication avancée d'IC. L'outil offre également des capacités avancées de formation de motifs. Les systèmes d'alignement optique et de superposition relient avec précision les images de plusieurs ensembles de données, donnant des bords parfaits dans les applications les plus exigeantes. L'imagerie basée sur la polarisation peut être utilisée pour améliorer le contraste et réduire l'exposition hors foyer dans les lentilles de caméra. L'actif dispose également de fonctions de contrôle de focalisation et de traitement d'image avancé, permettant d'affiner et de traiter les images avec la plus grande précision. TEL Clean Track Isemblus Pro est un outil puissant pour la production de masques et la fabrication d'IC. Ses systèmes sophistiqués permettent de former rapidement des motifs semi-conducteurs avec des arêtes rasantes et une clarté d'image supérieure. La flexibilité et les fonctionnalités avancées du modèle en font un choix privilégié pour créer des IC haute performance avec des géométries plus petites.