Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro #293802326 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus L'équipement de photorésistance Pro est un système de pointe haut de gamme conçu pour les processus de photolithographie. La photolithographie est utilisée pour créer des motifs très petits et complexes avec une précision extrême, et cette unité permet ce processus avec une précision et une fiabilité très élevées sur le marché. La technologie de photorésistance est utilisée pour capturer et suivre les motifs de la machine. La résine photosensible est constituée d'un matériau photosensible qui subit un changement lorsqu'il est exposé à la lumière. La lumière sera mise en forme dans le motif nécessaire à la photolithographie et cela sera capturé dans la photorésist. Au cours du procédé, le motif sera exposé sur un substrat et à la fin du procédé, la résine photosensible pourra être enlevée pour révéler le motif. Les caractéristiques clés de l'Opus Pro sont ses composants optiques de haute précision qui permettent de capturer le positionnement exact du motif lorsqu'il est exposé sur le substrat. Les capteurs très précis utilisés traduisent le motif en coordonnées numériques avec une précision de +/- 0,15 micron. De plus, la capture d'image haute résolution utilise des caméras CCD très sensibles et sa source lumineuse fournit un éclairage lumineux et uniforme, fournissant une précision d'exposition constante et précise. Bien sûr, le principal avantage de cet outil est son actif de piste propre avancée. Le modèle Clean Track est conçu pour empêcher la formation de particules sur la photorésist et contaminer les motifs et ceci est réalisé par un environnement sous vide qui tire l'air, capturant les particules et protégeant le processus photolithographique. Dans l'ensemble, l'équipement de photorésistance Pro de TEL Clean Track offre aux utilisateurs un processus de photolithographie précis et fiable, avec des composants optiques de haute précision, des capteurs précis et un système de piste propre pour la prévention des particules. L'unité est conçue pour fournir un processus photolithographique très efficace et précis qui peut produire des résultats cohérents.