Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro #293802328 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus Pro Photoresist Equipment est un outil de lithographie de pointe utilisé pour créer des pièces fines et de haute qualité pour les produits microélectroniques. Le système de photorésistance Éliminer Piste de Pro utilise un processus d'imagerie laser pour créer des motifs sur un film de photorésist qui peut ensuite être développé dans un appareil. Cette unité est capable de réaliser des motifs fins très précis et des structures complexes avec des taux de défauts minimes. Il est conçu pour répondre aux exigences strictes des prochaines générations d'IC. La machine Pro Photoresist d'Elimination Track dispose d'un outil de balayage Maskless unifié (MSS), qui utilise un laser de haute précision pour exposer les motifs de photorésist à la surface du substrat. Cet atout dispose d'un processus d'imagerie très fiable avec une haute résolution jusqu'à 2570 nm avec une taille de champ maximale jusqu'à 5,75 mm. De plus, le modèle de résistance photosensible Eliminate Track de Pro est capable d'obtenir une grande uniformité d'imagerie et une profondeur d'image uniforme à chaque exposition. L'équipement de photorésistance Eliminate Track de Pro dispose également d'un système de balayage multi-lignes robuste, microstepping et segmenté, qui offre une résolution améliorée pour l'imagerie précise sur les tâches difficiles. Cette unité est également équipée d'une conception et d'une intégration optiques avancées qui lui permettent d'atteindre des niveaux d'imagerie presque parfaits. De plus, la machine Pro Photoresist Eliminate Track prend en charge la cuisson post-exposition pour améliorer les performances de la résistance lors du processus de photolithographie. L'outil de photorésistance Eliminate Track de Pro est également conçu pour un entretien facile et de faibles coûts d'exploitation. L'actif dispose d'un suivi automatique des systèmes de photolithographie pour assurer un fonctionnement continu et précis sans temps d'arrêt. En outre, le modèle est équipé de logiciels avancés, qui permettent une surveillance et une programmation faciles des paramètres d'imagerie. Enfin, l'équipement de résistance photosensible Eliminate Track de Pro prend en charge un large éventail de processus de wafer, tels que la ligne et l'espace, l'encombrement, les motifs 3D complexes et la photolithographie à haut rapport d'aspect. Dans l'ensemble, le système de photorésistance Eliminate Track de Pro est un outil fiable et efficace pour créer une large gamme de produits microélectroniques de qualité supérieure. Cette unité est conçue pour fournir l'imagerie avancée et le développement et l'intégration de processus de wafer supérieur. De plus, la machine photorésist Eliminate Track de Pro est équipée de conceptions optiques avancées et de logiciels faciles à utiliser pour assurer un entretien et un fonctionnement faciles.