Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro #9218786 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus Pro est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour effectuer des processus de photolithographie très contrôlés et précis sur un large éventail de substrats. La photolithographie, aussi appelée technologie photomasque, est la méthode de transfert de motifs entre deux matériaux distincts utilisant la lumière. En raison de sa grande sensibilité à la lumière et aux produits chimiques, la très large gamme d'applications de photomasking est capable de fournir une précision supérieure. C'est un système qui utilise les technologies SynchroScan et AsyncScan photomask, qui offrent des capacités de numérisation et de traitement simultanées pour les structures de masques à grande vitesse. Cette dernière est conçue pour une utilisation avec une gamme de matériaux photorésistants, y compris des revêtements positifs, négatifs et spin. La photorésist est un film d'un matériau photosensible qui est appliqué sur un substrat, tel qu'un substrat de plaque de silicium, pour former un motif de ce matériau. Avec une combinaison de technologies de photomasques AsyncScan et SynchroScan, le système de photomasque d « écrou offre un entretien optimal des motifs et une précision de rapport d » aspect élevée. L'unité dispose d'un certain nombre de fonctionnalités avancées conçues pour des applications photomasques et photorésistantes, telles qu'une machine de contrôle dynamique de vitesse de balayage, un réglage automatique du ton, et un outil de détection de focalisation précis. Avec des programmes intégrés tels qu'un assistant d'étalonnage, la procédure de configuration est simple et précise, ce qui simplifie l'alignement et l'étalonnage pour une précision et une reproductibilité maximales. Il fournit également un certain nombre de protocoles de nettoyage standard et spéciaux, tels qu'un mode de nettoyage propre par serrage sous vide et un mode propre à température variable pour éliminer la graisse, la poussière et d'autres contaminations. Les capacités d'inspection intégrées permettent des résultats d'inspection reproductibles et uniformes. Ces caractéristiques font de l'Opus Pro un outil puissant pour les applications photomasques et photorésistantes de précision. Il est capable d'effectuer des prélèvements complexes sur un large éventail de substrats avec des résultats reproductibles. Conçu pour s'installer facilement, il offre un contrôle intuitif et une large gamme de fonctions de productivité et de sécurité, ce qui en fait un choix idéal pour ceux qui exigent une grande précision et efficacité de leurs systèmes de photolithographie.