Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #293595689 à vendre en France
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ID: 293595689
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2004
Coater / Developer system, 12"
In-line with CANON ES6
(4) Loaders
TEL Photoresist processing system
FOUP Carrier station: 4 Side loading
(2) Process station blocks
Wafer edge with inline thickness measurement system
CAR Capable
DEV Solution supply system
FIRM Supply system
NH3 Monitor ports specification
CANON Interface station
Online communication (GJG)
S2-0302 Safety compliance
(3) P.Resist coater units
(2) BARC Resist coater units
(5) Developer units
LD Nozzle
(3) Adhesion process units
(6) Chill Plates (CPL)
(2) Water Controlled Chilling Plates (WCPL)
(5) Chilling Low Temperature Hot Plates (CLHP)
(10) Chilling High Precision Hot Plates (CPHP)
(2) External chemical cabinets
T and H controller cup
AC Power box
HPT Pump:
(4) Nozzles per cup
(6) Nozzles per cup
Direct drain:
COT
BCT
DEV
Solvent supply system:
COT
BCT Unit
Power supply: 208 VAC, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un équipement de photorésistance conçu pour améliorer la production de circuits intégrés dans la fabrication de semi-conducteurs. Le système se compose de deux composants qui, lorsqu'ils sont utilisés en tandem, permettent un développement plus propre et plus précis des microcircuits. L'unité se compose d'un agent de nettoyage de la marque, et d'une chambre Clean Track, les deux composants conçus par TEL. L'agent de nettoyage de la plaquette de la plaquette utilise un solvant pour éliminer les impuretés et les résidus sur la surface de la plaquette. Ceci permet un traitement propre et précis des photorésistants sur la plaquette. Lorsque l'agent de nettoyage est appliqué, il se lie aux contaminants, les éliminant en une seule application. Bien qu'il soit capable de nettoyer une grande variété de résidus, il convient à la plupart des systèmes photorésistants, y compris ceux développés par TOKYO ELECTRON. La chambre Clean Track est une chambre étanche avec un porte-plaquettes unique. La plaquette est placée sur le support dans l'espace scellé et est utilisée pour introduire l'agent de nettoyage D. La plaquette est ensuite exposée à la lumière ultra-violette, qui agit pour catalyser le processus de nettoyage de la lithographie photorésiste. Cela se produit dans un espace fermé, empêchant la contamination de l'environnement, comme la poussière et l'humidité, qui pourrait entraver le processus de développement. L'application conjuguée de l'agent de nettoyage D et de la chambre Clean Track permet d'obtenir des structures détaillées en plaquettes de manière sûre et efficace. Cela permet un plus grand niveau d'intégration et de précision lors de la fabrication des circuits intégrés, et augmente le rendement et le débit. En conclusion, TEL Clean Track Isemblus est un outil photorésist efficace et très performant, idéal pour la fabrication de circuits intégrés. L'environnement propre de la chambre Clean Track ainsi que le solvant de nettoyage rapide permettent un traitement détaillé et précis de la structure, augmentant le rendement et le débit pour un large éventail d'applications.
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