Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9195123 à vendre en France
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ID: 9195123
Taille de la plaquette: 12"
Coater / Developer systems, 12"
Multi block.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un équipement de photorésistance pour gérer l'exposition de diverses images sur un substrat. Ce système est utilisé pour des applications de finition et de lithographie en microélectronique, affichage à écran plat, dispositif optoélectronique et procédé de fabrication de semi-conducteurs. L'unité TEL Clean Track (en anglais seulement) est composée de trois parties : l'unité de distribution de la résine photosensible, la section d'exposition à l'image et la section de transfert du film sec. Des photorésistes sont initialement distribués sur le substrat de l'unité de distribution de photorésist, qui est intégrée à la machine. Cette unité assure une distribution uniforme des photorésists grâce à sa pression et sa vitesse bien contrôlées, afin d'assurer un bon point de départ pour les opérations ultérieures. La deuxième section de l'outil est la section d'exposition d'images, qui effectue alors le processus d'exposition de l'image désirée sur les photorésistes. Cette section est équipée d'une source de lumière UV-LED, qui fournit une sortie UV très stable avec un besoin minimal d'étalonnage. Cela garantit que toutes les parties de l'image nécessitant une exposition sont exposées à une intensité UV uniforme, conduisant à un processus de détermination précis et répétable. Enfin, la troisième section de l'actif est la section de transfert de film sec. Cette section utilise des robots de transfert de film sec précis pour produire des couches extrêmement minces de film photosensible qui peuvent être transférées sur le substrat. Les robots de cette section sont capables de positionner avec précision le film sec sur le substrat tout en minimisant les risques de contamination ou de frottement. En conclusion, TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un modèle de photorésist efficace pour des applications précises de balisage et de lithographie. Il est capable de fournir une distribution uniforme de photorésistes, une exposition uniforme à l'image et un transfert de film sec précis et reproductible. Ces caractéristiques le rendent bien adapté à l'utilisation dans la microélectronique, l'affichage à écran plat, le dispositif optoélectronique et le procédé de fabrication de semi-conducteurs.
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