Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9217452 à vendre en France
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ID: 9217452
Interface block
MITSUBISHI P/N: RC-1UHC-SAT07
DAIKIN P/N: DFS410TC1B
Additional P/N:
(1) DFS410TC1E
(1) MR-JS2-BC001-QE
(2) MR-JS2-20A
(1) MR-JS2-40A
(1) MR-JS2-10A
(1) MR-T0059A-117B.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un équipement de photorésistance entièrement automatisé conçu pour fournir des résultats précis, propres et cohérents dans toutes les applications de lithographie. Grâce à des logiciels avancés d'imagerie et de traitement, ce système produit des résultats cohérents pour divers types de matériaux photorésistants, dont la photorésist, l'acrylique, le PMMA ou le polyimide. L'unité utilise une combinaison de composants optiques avancés tels que des lentilles, des éléments optiques diffractifs, des miroirs et des filtres de longueur d'onde pour créer un faisceau uniforme qui est appliqué au matériau photorésist. Cette application traite le faisceau de manière à encapsuler complètement le substrat et à créer une couche de couverture uniforme en une fraction de seconde seulement. Cela garantit que le matériau exposé a une couverture précise et même pour une qualité et des performances maximales. L'outil avancé de la machine offre des mouvements précis et répétables avec une vitesse de balayage maximale de 0,5 mm/s. Il offre également un suivi en temps réel de la température du substrat pour garantir des résultats cohérents et reproductibles. Cette caractéristique réduit encore le temps nécessaire au traitement régulier du substrat désiré. En outre, cet actif est également équipé de fonctions de nettoyage automatique. Les systèmes de nettoyage de la buse et de détection des fuites de la buse du modèle garantissent que les systèmes de distribution d'air et les buses fournissent une pulvérisation uniforme, éliminant tout risque d'erreur de livraison d'air ou de matière. Dans l'ensemble, TEL Clean Track Isemblus est un équipement de photorésistance de précision de pointe conçu pour fournir des résultats cohérents et reproductibles dans toutes les applications de lithographie. Sa combinaison de composants optiques avancés, de vitesse de balayage et de régulation de température offre une solution complète adaptée à toute tâche lithographique. De plus, ses fonctions de nettoyage automatisé garantissent une couverture uniforme du faisceau et des niveaux de température fiables du substrat.
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