Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9227626 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track (CTL) est un équipement de photorésistance dédié conçu pour fournir des solutions de photorésistance fiables et performantes avec la flexibilité et l'évolutivité nécessaires pour répondre aux exigences des technologies émergentes. Le système CTL offre une gamme complète de capacités de lithographie, de gravure et de traitement de surface qui permettent un débit rapide de processus d'inversion photorésist et de microfabrication sur une large gamme de substrats. L'unité CTL supporte une grande variété de matériaux photorésistants classiques et avancés tels que des résistances silylées et nanoparticulaires positives, négatives et avancées, permettant aux clients de sélectionner la machine de résistance optimale pour leurs besoins spécifiques d'application. CTL est également capable de contrôler automatiquement plusieurs processus, y compris l'exposition, la vitesse, les flux de gaz et les paramètres pour chaque type de résistance spécifique. Cela permet aux utilisateurs de réaliser la production de prototypes en ligne ou le développement rapide de processus multicouches sans intervention manuelle. Les principaux composants de l'outil CTL comprennent un poste de travail intégré avec un support de substrat FPD de 8 pouces, une plate-forme d'exposition de 6 pouces avec une variété de sources d'éclairage, un module de gravure avec jusqu'à neuf sources de gravure ou de dépôt simultanées, et un actif de passage qui facilite le transport vertical des substrats. La plate-forme d'exposition dispose d'un champ d'imagerie de 45 x 25 pouces carrés qui fournit la possibilité de modeler des appareils avec des largeurs de ligne jusqu'à 0,2 microns. À des fins de pré- et de post-traitement, le modèle CTL comprend également une plate-forme avancée équipée d'une capacité de lithographie douce, d'un traitement de surface sous vide et de fonctions de gravure de plasma. L'équipement CTL est équipé de systèmes de manutention automatisés et de capacités de traitement à grande vitesse. L'automatisation sur le système CTL est conçue pour réduire considérablement le temps d'attente et les étapes de processus associées à l'utilisateur, permettant aux utilisateurs de prototyper rapidement et de traiter une variété de matériaux rapidement et efficacement. Avec l'unité CTL, les utilisateurs peuvent facilement exécuter des processus précis de conception et de production de photomasques ainsi que des paramètres de dépôt exacts, un contrôle cohérent du profil de résistance et une meilleure précision de l'alignement de recouvrement de résistance. La machine CTL supporte également la sélectivité globale des gravures diélectriques et des profils de gravure précis, permettant aux utilisateurs de réaliser des modèles de dispositifs sur plusieurs substrats et technologies avec un minimum de temps et de coût. L'outil CTL est très fiable et nécessite un entretien minimal, permettant aux utilisateurs d'obtenir des résultats cohérents et prévisibles tout au long de la vie de l'actif. Le modèle est compact et économique, et est conçu pour être intégré avec d'autres outils de traitement pour un processus de production entièrement automatisé. Avec ses capacités de haute performance et son automatisation, TEL CTL est la solution idéale pour les besoins de traitement de photorésistance industrielle et de recherche.