Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9243664 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour promouvoir l'efficacité du processus de production des semi-conducteurs. Il offre un ensemble d'outils particulièrement puissants pour aider à la lithographie de chaque étape du cycle photorésist, permettant la personnalisation de chaque processus. Ce système simplifie le processus de fabrication, créant un temps de cycle réduit sans compromettre la qualité pour conduire à des résultats plus productifs. L'unité TEL Clean Track Isemblus permet un contrôle précis du cycle photorésist, permettant des processus de lithographie sans faille à chaque étape. Sa fonction de mesure automatique de l'épaisseur du film (FTM) garantit que le film de photorésist est de l'épaisseur désirée tout au long du cycle de photorésist, ce qui permet un résultat de résistance super précis. Cette machine fournit également une fonction préemptive de nettoyage in situ (CIS), qui garantit que la résine photosensible est toujours en état vierge avant l'imagerie. La fonction CIS crée un précieux équilibre entre l'obtention d'une adhérence photorésist optimale et l'évitement des pertes d'adhérence du film. En outre, l'outil comprend également une fonction de compensation d'inclinaison de bord (ETC) de crête, qui compense rapidement et précisément le déplacement de motif de résistance qui peut se produire lors de la litho-gravure. L'automatisation offerte par l'actif TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus augmente également le débit fab en supprimant le besoin d'interventions manuelles. Le modèle diagnostique de processus intégré (PD) est capable de détecter et d'éliminer les variations de processus et d'assurer un traitement optimal de la cassette de résistance, permettant des résultats de fabrication plus rapides et plus précis. Dans l'ensemble, Clean Track (en anglais seulement) est un équipement photorésist efficace et fiable pour la fabrication de semi-conducteurs. Il fournit des résultats de lithographie haut de gamme en assurant un contrôle précis de l'épaisseur du film, un nettoyage préventif, une compensation de l'inclinaison des bords et des diagnostics de processus avancés, tout en réduisant le temps de cycle en supprimant les interventions manuelles. Ce système garantit des résultats cohérents et fiables tout au long du cycle photorésist.