Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9267420 à vendre en France
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ID: 9267420
Taille de la plaquette: 12"
System, 12"
Cassette stage block
SMC Thermo-Con block
Plate stacks
Coat develop module
AC Power box
Miscellaneous panels.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un équipement de photorésistance caractérisé par sa capacité à réduire la taille et la complexité du processus lithographique et à améliorer la propreté et la productivité du processus de nettoyage. TEL Clean Track (TEL Clean Track) est une solution technique modulaire et modulaire pour les technologies de masquage/gravure et de nettoyage. Il convient à la fois à la production de masse et à la transformation en quantité limitée. L'unité dispose d'une source de lumière ultra-courte longueur d'onde qui permet de modeler les photomasques en haute résolution et d'améliorer les performances de nettoyage. Cela permet également de développer des masques/motifs de placement à haute résolution et de réduire le pas minimum pour les motifs. La mise en page des motifs est optimisée en utilisant des motifs de faible dimension (2 à 4 couleurs). La couche de résine photosensible est appliquée en une seule étape, ce qui augmente le débit et réduit la complexité par rapport aux techniques classiques de traitement de résistance. TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus intègre également une machine de nettoyage avancée dans le processus de balisage. L'outil de nettoyage combine les processus de nettoyage chimique humide et de particules sèches. Le procédé de gravure humide utilise une solution chimique haute pression (1,7 à 3,5 mPa) pour éliminer le matériau photorésist du substrat. Le processus de nettoyage des particules sèches utilise des particules de différentes tailles pour éliminer toute résine photosensible restante du substrat. La combinaison des deux procédés de nettoyage permet d'augmenter le débit et de nettoyer la résistance photosensible. Clean Track Isemblus offre également un outil de surveillance en ligne pour les inspections et la surveillance des processus. Le modèle mesure l'intensité lumineuse du matériau de résistance et utilise l'intensité lumineuse appliquée pour générer des signaux d'avertissement si l'intensité lumineuse est en dehors de la plage acceptable. L'équipement peut également être utilisé pour mesurer la propreté du substrat traité, permettant aux ingénieurs d'identifier d'éventuels défauts de nettoyage avant le processus d'application de la résine photosensible. De plus, le système TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus intègre un boîtier intelligent (ICH) pour un positionnement rapide et précis. L'ICH utilise un analyseur de positionnement multi-axes pour identifier la position précise du substrat lors du balisage. La configuration obtenue est uniforme et précise, ce qui permet des rendements plus élevés et une plus grande stabilité du procédé. En conclusion, le système de résistance photosensible TEL Clean Track est une solution technique avancée pour le photomasque et la gravure. L'unité est conçue pour réduire la taille et la complexité du processus lithographique tout en améliorant la propreté et la productivité du processus de nettoyage. Le résultat global est une amélioration des rendements, une augmentation du débit, une plus grande uniformité et une plus grande stabilité des procédés.
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