Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9267953 à vendre en France

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TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius
Vendu
ID: 9267953
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
(2) Coater / (3) Developer system, 12" Mainframe with controller (4) FOUPS and Carrier station SHINWA T&H-ME-1-1AZAZAZ-01 Temperature and humidity controller SMC INR-244-260A-2 Temperature Controller Unit (TCU) Coater unit (2-1, 2-2): (10) Dispense nozzles With temperature controlled line: HPT 106-2 Pump PR Suck-back valve type: (20) AMC Suck-back valve Degasing system for solvent (PCS Pumps) Programmable side rinse: PR Nozzle: (10) Bottles Solvent 1 supply: CCSS Solvent 2 supply: Local canister tank 1 and 2 Photo resist temperature control system Direct drain type Developer unit: NLD Nozzle Stream nozzle for DI rinse Degasing system for developer (PCS Pumps) Developer supply: CCSS DIW Supply: CCSS Developer temperature control system Direct drain type Chemical cabinets: COAT Cabinet 2-DEV Cabinets AC Power box: 200 / 220 V Full-load current: 152 Amps 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un équipement de traitement des plaquettes semi-conductrices de pointe conçu pour la production de photorésistances. Ce système combine un processus de nettoyage avancé avec un dépôt photorésist très précis pour produire des produits de la plus haute qualité sur demande. TEL Clean Track Isemblus dispose d'une paire de bras robotisés pour déplacer les plaquettes entre les étapes de nettoyage et de dépôt. Le processus de nettoyage intégré de la machine utilise des additifs à l'eau pure et de l'oxygène pour fournir des plaquettes totalement propres et exemptes de contaminants organiques et inorganiques. L'outil de dépôt est constitué d'une paire de pistolets à dépôt en phase vapeur ultra-haute densité, renforcés par plasma, qui vaporisent thermiquement et condensent des composés sur la surface de la plaquette, donnant une excellente homogénéité et reproductibilité du motif photorésist. L'actif est configuré avec deux pistes de convoyage indépendantes sur les côtés supérieur et inférieur de la chambre de traitement pour gérer les plaquettes, et peut traiter jusqu'à 300 plaquettes de 200mm par heure. La suite logicielle TOKYO ELECTRON Clean Track de Tokyo permet un contrôle complet des paramètres du modèle pendant le traitement des plaquettes, y compris la possibilité d'enregistrer des recettes et de les modifier à la volée. Grâce à son matériel et à son logiciel, l'équipement est capable d'atteindre une uniformité de dépôt de +/- 0,9 µm sur toute la surface de la plaquette. Le système est équipé de capacités d'autodiagnostic pour détecter et corriger toute anomalie de processus en temps réel. En plus de ses excellentes capacités de contrôle des processus, Clean Track Isemblus dispose également d'une variété de fonctions de sécurité pour protéger l'unité contre la contamination et les erreurs de fonctionnement. La machine est équipée de multiples chicanes métalliques anti-contamination et de rideaux d'air pour minimiser les fuites de particules dans la chambre de procédé. Il utilise également une architecture multiplexée de pompage d'entrée pour s'assurer que les gaz utilisés dans le procédé sont exempts d'hydrocarbures qui peuvent être dangereux pour la plaquette. Enfin, l'outil est équipé de contrôles de circuit de sécurité spécifiques à l'outil pour s'assurer du bon fonctionnement de l'actif. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un outil idéal pour des dépôts photorésistants de haute précision. Il est conçu à l'opération 24/7 et est actuellement installé dans une variété de laboratoires et d'installations de production dans le monde entier. Le modèle est très efficace et conçu pour des années de fonctionnement fiable, permettant aux utilisateurs de traiter les photorésists rapidement, augmente les rendements des plaquettes et la rentabilité.
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