Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9269264 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un équipement de photorésistance conçu pour fournir une production lithographique de haute précision pour la fabrication de circuits intégrés à grande échelle (LSIC) et d'autres procédés connexes. Le système offre des performances et des économies supérieures, tout en réduisant le risque de contamination. Les principales caractéristiques de TEL Clean Track Isemblus comprennent l'imagerie haute résolution, un aligneur de masque automatisé pour l'enregistrement précis de la superposition, une unité dédiée pour assurer la livraison en toute sécurité des masques exposés, un scanner à faisceau avancé pour l'imagerie optimisée et une unité de nettoyage ultra haute puissance pour réduire les risques de contamination. La fonction d'imagerie haute résolution fournit une résolution aussi fine que 0,5 microns, et assure que l'image finale produite reflète fidèlement le masque utilisé dans le processus. L'aligneur de masque automatisé est conçu pour fournir un enregistrement précis du masque au circuit cible, permettant d'effectuer une lithographie avancée. L'unité dédiée est conçue pour assurer la livraison sûre des masques exposés, en veillant à ce que les matériaux indésirables ne soient pas transférés dans le processus. Le scanner à faisceau avancé permet des performances d'imagerie optimales, tandis que la machine de nettoyage ultra haute puissance travaille pour réduire les risques de contamination. TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est conçu pour fournir un processus de fabrication fiable et efficace, avec une large gamme d'applications de lithographie. La capacité de l'outil à produire des images haute résolution et une exposition directe au substrat cible garantit que le processus donne des résultats de qualité. De plus, le scanner à faisceau avancé, l'aligneur de masque automatisé et l'unité de sécurité dédiée travaillent tous ensemble pour assurer une production lithographique sûre et précise.