Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9329259 à vendre en France
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ID: 9329259
Taille de la plaquette: 12"
Coater / Developer system, 12"
Single block.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un équipement de photorésistance de pointe développé par TEL, un fabricant leader d'équipements pour l'industrie des semi-conducteurs. Le système est conçu pour fournir une définition précise et haute résolution sur les couches de résines photosensibles, ce qui le rend apte à être utilisé dans des applications de fabrication de semi-conducteurs. L'unité commence par une procédure de spin coating, par laquelle le matériau photorésist est appliqué en couche mince et uniforme sur le substrat. Ceci permet d'assurer un recouvrement adéquat de la surface par le matériau photorésistant et de créer des couches minces uniformes du matériau. Après enrobage, la couche de résine photosensible est exposée à une source lumineuse afin de créer le motif désiré. Selon la longueur d'onde de la lumière et les caractéristiques de la photorésist, ce procédé peut soit éliminer sélectivement, soit réticuler la photorésist au niveau du motif. L'étape suivante du processus consiste à utiliser l'outil de mesure de la machine TEL Clean Track de l'entreprise pour marquer avec précision le motif sur la surface de la résine photosensible. Les outils utilisés dans cette étape sont très précis, et ils peuvent atteindre des tolérances plus faibles que tout autre système comparable. Ceci est particulièrement important pour les applications de fabrication qui nécessitent une grande précision et un contrôle de qualité. A la suite du procédé de balisage, la résine photosensible est développée et gravée pour former le circuit ou circuit intégré requis sur le substrat. L'outil TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus propose également une étape d'inspection post-développement qui sert à vérifier la qualité du circuit final. Cela permet de s'assurer que les normes esthétiques et de performance requises sont respectées. Dans l'ensemble, Clean Track Isemblus est un atout puissant et fiable pour la création de photorésistance pour les applications de fabrication de semi-conducteurs. Il offre une grande précision lors de l'impression des conceptions, un excellent contrôle sur le processus de fabrication, et une couche supplémentaire de vérification pour confirmer la qualité du produit fini. Grâce à son utilisation, les fabricants peuvent produire des composants avec un excellent niveau de précision, de fiabilité et de qualité.
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