Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9351008 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un équipement de photorésistance conçu dans le but d'améliorer les procédés de fabrication de précision. Il combine une nouvelle formule chimique avec un système de lithographie optique spécialisée pour créer des motifs de précision ultra-fine avec une couche photorésiste avancée. Cette unité avancée est conçue pour permettre la photolithographie de précision sur les plus petits composants électroniques et procédés de fabrication de puces. La machine photorésist développée par TEL profite d'un matériau photosensible sur mesure, optimisé pour produire le plus haut niveau de précision dans les motifs ultra-fins. Le matériau spécialement formulé est conçu pour éliminer toute possibilité de diaphonie ou d'interférence entre les composants microscopiques de la couche de résine photosensible. De plus, l'outil de lithographie optique est capable de produire des motifs de précision, des lignes et des forets beaucoup plus petits que ce qui pourrait être réalisé avec les systèmes traditionnels. L'atout de la lithographie optique dans ce modèle de photorésist utilise un équipement d'exposition progressive à l'aide d'un laser à courte longueur d'onde (ultraviolet). Le système d'exposition au scanner est capable de créer un large éventail de motifs avec une excellente précision. En utilisant le laser à courte longueur d'onde, il est également possible de créer des motifs au niveau de la conception structurelle, plus petits que les composants macroscopiques spécifiés. Les performances d'imagerie de TEL Clean Track Isemblus sont également supérieures à beaucoup de ses concurrents. Il est capable de créer un schéma de résolution plus élevée sur une zone d'exposition plus large. L'unité offre également une large gamme de produits chimiques photorésistants parmi lesquels l'utilisateur peut choisir pour la fabrication sur mesure. Tous les composants utilisés dans cette machine sont conçus pour travailler ensemble en synergie afin de fournir un motif uniforme, net et propre. Enfin, les formules chimiques utilisées dans l'outil de photorésistance sont optimisées pour réduire les défauts de surface et améliorer la fiabilité de la surface du produit biseauté. Les produits finaux livrés par cet actif sont extrêmement fiables et résilients, ce qui les rend adaptés à une grande variété d'applications. TOKYO ELECTRON Modèle photorésist Clean Track de Tokyo peut offrir aux utilisateurs une méthode fiable et précise de production de motifs ultra-fins avec une excellente précision et des défauts minimes.