Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9375513 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un équipement de photorésistance conçu pour la fabrication de semi-conducteurs et d'électronique. Le système utilise un procédé de résistance avancé pour déposer et modeler une couche de photorésist sur des plaquettes et d'autres matériaux de substrat. Cette unité dispose d'un certain nombre de caractéristiques qui en font un choix attrayant pour les procédés semi-conducteurs exigeants où l'alignement précis et l'uniformité des dépôts photorésistants sont primordiaux. La chambre d'exposition frontale de la machine assure une exposition à la résistance uniforme et bien contrôlée sur toute sa largeur, ce qui assure un tissage de haute qualité sur l'ensemble de la plaquette. L'optique de projection utilisée garantit que l'imagerie de résistance est cohérente du centre au bord de la plaquette, avec un mouvement uniforme sur la surface et aucun motif manqué ou désaligné. En plus de son optique performante, l'autre élément principal de l'outil de la Société est son traitement de résistance avancé. Des caractéristiques telles que le contrôle auto-focus et l'alignement en trois points sont présentes pour s'assurer que tous les points de contact sont propres et en position pour un dépôt et un piégeage précis. La technologie d'alignement en trois points utilisée garantit également que la bonne quantité de résistance est appliquée, et le revêtement est à la fois cohérent et uniforme. De plus, TEL Clean Track Isemblus est livré avec une suite de fonctionnalités et d'options de sécurité intégrées. Cela comprend la protection active et passive de l'EDD, les dispositifs de neutralisation statique et le matériel de surveillance atmosphérique. Ces fonctionnalités permettent d'assurer la sécurité des utilisateurs et des composants tout au long du processus. Toutes ces fonctionnalités fonctionnent en tandem pour fournir aux utilisateurs de TOKYO ELECTRON Clean Track Accessoires des résultats très précis et cohérents avec un minimum d'effort. Ses performances supérieures et ses caractéristiques de sécurité en font un modèle préféré pour les procédés de photorésistance exigeants et de haute précision dans l'industrie des semi-conducteurs.