Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9375518 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius
ID: 9375518
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
System, 12" Multi block (4) FOUP (25 wafers) Left to right High speed IBFM (4) Coat modules RGEN02 Pumps (4ml type) (7) Resist nozzles Resist temp control Top side EBR RRC PRE Wet (4) Develop modules SH Nozzle Top side rinse Develop temp control (2) ADH (4) HCP (High speed CPL) (4) Low Hot Plate (LHP) (9) Chilling High Precision Hot Plate (CPHP) (2) Water Chilling Plate (WCPL) IHCP Cup Wash Holder (CWH) BWEE (2) TRS (2) Cup T&H Control units Chemical box ASML Interface HDD Not included 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un équipement de photorésistance conçu pour les procédés avancés de lithographie des semi-conducteurs. C'est le premier système « NO HOOD » de l'industrie, maximisant l'espace de la salle blanche sans compromettre les performances. Cette unité utilise une technologie propriétaire de mandrin à vide pour fournir un maintien de plaquette de vide sans contact supérieur et une précision d'alignement améliorée. TEL Clean Track Isemblus prend en charge les alignements de pas et de répétition SAED complets, les coutures 3D et les alignements de superposition. Il offre également des fonctions de manutention multi-projets améliorées pour réduire le nombre de particules, ainsi que pour aligner l'élimination du temps mort. De plus, cette machine réduit considérablement la durée du cycle de chargement et de déchargement. TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus prend en charge divers photorésistes pour la lithographie. Il s'agit notamment des résistances à sous-microns profonds (DSM) avec des résolutions supérieures à 0,25 micron, ainsi que des résistances à haut rapport d'aspect (HAR) et des résistances à compatibilité thermique (TCR) avec des résolutions à sous-microns. Une fois qu'une résistance a été choisie, Clean Track Isemblus prépare un plan d'intégration unique pour le processus. Ce plan fonctionne avec une base de données de formulation photorésist propriétaire pour créer des recettes d'emploi optimales pour chaque couche. Il fonctionne également en corrélation avec un post-cuisson plasma in situ, et une livraison directe de plaquettes de poignée pour une répétabilité maximale de plaquettes à plaquettes. Enfin, il utilise des capacités de tri intégrées pour améliorer la correspondance des motifs. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track lui permet de gérer à la fois les processus par lots et les processus continus. Il peut également intégrer plusieurs couches dans un seul travail pour améliorer la continuité de l'image. Enfin, cet outil offre une surveillance intégrée des processus et un contrôle de la qualité des plaquettes, garantissant des résultats cohérents et reproductibles. TEL Clean Track Isemblus est une solution fiable et facile à utiliser pour les procédés avancés de lithographie des semi-conducteurs. Sa technologie propriétaire de mandrin sous vide, ses fonctions intégrées de surveillance des processus et son plan d'intégration complet en font le choix idéal pour des besoins de précision.
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