Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9404400 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Isemblus est un équipement de photorésistance à large spectre conçu pour des procédés lithographiques avancés dans un large éventail d'applications d'imagerie et de fabrication de dispositifs. Il intègre un système avancé d'imagerie microscopique pour assurer des répliques claires et propres des images masquées avec une précision de haute résolution. L'unité utilise une source laser excimère KrF à longueur d'onde unique avec une combinaison d'optiques d'imagerie incohérentes pour obtenir des images à haute résolution sur une gamme de profondeurs et de tailles. La photorésist est une double couche de composants d'immobilisation isotrope et anisotrope. L'élément isotrope assure un excellent mouillage, tandis que l'anisotrope assure que les projections d'immersion maintiennent une bonne résolution pendant le processus. TEL Clean Track Isemblus utilise un processus innovant de conception de motifs pour réduire les erreurs de décalage de motifs. La machine comprend des options de balayage rapide et plein champ, de balayage vertical et horizontal et de balayage à tranches multiples ou à champ intégré. L'outil TOKYO ELECTRON Clean Track (en anglais seulement) offre également une capacité de compensation auto-adaptative pour réduire les distorsions causées par les non-linéarités dans le processus d'imagerie. Le processus d'application de l'actif commence par photomasking, un processus qui implique la création d'une image de masque pour chaque motif. Cette image est ensuite transférée sur la couche de résine photosensible et est fixée sur un substrat. La lumière est utilisée pour réduire la surface exposée à la lumière et créer le motif sur le masque. Après exposition de la couche de photorésist, on appliquera une couche de fluide valorisant pour augmenter l'adhérence de la photorésist sur le matériau du substrat. Enfin, un processus de durcissement impliquant des niveaux intenses de lumière ultraviolette UV est utilisé pour compléter la structure. Dans l'ensemble, Clean Track Isemblus offre une large gamme de fonctionnalités qui permettent une lithographie et une fabrication d'appareils très précises et fiables. Le modèle d'imagerie avancé, le processus de conception de motifs et la capacité de compensation auto-adaptative contribuent tous à fournir des résultats précis et propres avec une précision de haute résolution. Cet équipement est un excellent choix pour tous ceux qui recherchent un système photorésist complet et de haute qualité.