Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 5z #9198153 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 5z est un équipement de photorésistance utilisé pour la production de dispositifs microélectroniques. Il est bien connu pour ses capacités de pointe dans l'industrie en fournissant des résultats supérieurs de particules et de décharge électrostatique, ainsi que des rendements supérieurs en salle blanche et en usine. Le Mark 5z est un outil essentiel dans la production de circuits intégrés (IC), OLED, LED, et d'autres appareils qui nécessitent une extrême propreté. Le système photorésist se compose de deux composants principaux : une unité d'exposition par laser et une machine d'exposition par solution. L'outil d'exposition au laser utilise un quantum laser focalisé pour projeter avec précision des motifs lumineux sur un substrat recouvert d'un matériau photosensible. En ajustant soigneusement l'intensité lumineuse et le motif, le matériau sera exposé et converti en une couche de résine photosensible. La couche de résine photosensible est ensuite utilisée comme masque de gravure lors de procédés de gravure chimique, qui sont utilisés pour réaliser les composants d'un dispositif microélectronique. L'actif d'exposition basé sur la solution baigne avec précision le substrat dans un liquide contenant des produits chimiques photosensibles. Ces produits chimiques réagissent à une intensité lumineuse déterminée, donnant une couche de résine photosensible de la forme désirée. Ce modèle d'exposition convient aux microstructures qui ne pourraient pas être exposées avec précision avec un équipement laser. Le Mark 5z utilise trois étapes distinctes pour assurer les rendements les plus élevés et la fiabilité du processus photorésist. La première étape du procédé comprend un prétraitement dans lequel le substrat est préparé pour l'application de la résine photosensible. Cela comprend l'élimination des contaminants de surface, le rinçage, le séchage chauffé et le dépôt de métaux, qui contribuent tous à assurer que la résine photosensible adhère uniformément et fortement. La deuxième étape est la construction de la couche de photorésist, au cours de laquelle les systèmes d'exposition au laser et à la solution sont utilisés. Au cours de cette étape, le substrat est soit pulvérisé avec un matériau photorésistant, soit exposé à un laser ou à un liquide. Ceci crée une réplication précise de la conception prévue, permettant une fabrication très précise de structures microélectroniques complexes. La troisième étape du processus est la phase de développement, au cours de laquelle les produits chimiques dégazés sont passés en mode Bake pour soulever et éliminer les couches de résine photosensible. Le matériel indésirable est ensuite éliminé par diverses techniques. Une fois le processus de développement terminé, le substrat est prêt à être traité et utilisé. Dans l'ensemble, TEL Clean Track Mark 5z est un système photorésist fiable capable de produire des rendements élevés et la perfection des composants. Il est utilisé dans de nombreuses industries pour répondre aux besoins des dispositifs microélectroniques de plus en plus sophistiqués d'aujourd'hui.