Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II #293672262 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II Photoresist Equipment est un outil de meilleure qualité pour les procédés de précision des substrats en salle blanche. Ce système permet des procédures de photorésistance rapides et de haute qualité avec une interaction minimale du personnel. Il dispose d'une piste semi-automatique pour les processus de pellicule multi-étapes, permettant un traitement efficace du substrat. La machine emploie plusieurs chambres de traitement, chacune avec son propre fonctionnement indépendant. La séquence de processus comprend le déglaçage, le nettoyage du substrat, l'adhérence, le four mou, l'exposition, le four post-exposition et le traitement post-exposition. La chambre de déglaçage est conçue pour éliminer les contaminants de surface du substrat et le préparer à l'adhésion. Pour ce faire, on soumet la surface à un vide à haute énergie puis on pulvérise le substrat avec du plasma d'argon. La chambre de nettoyage du substrat utilise un procédé breveté de nettoyage au solvant hydrophile pour éliminer les résidus organiques et les films hydrophobes du substrat. La chambre d'adhésion est un procédé de dépôt chimique en phase vapeur où une monocouche d'organosilane de silicium est collée à la surface de la plaquette. Cela permet d'assurer une bonne liaison des couches ultérieures avec le substrat. La chambre de cuisson molle prépare encore la plaquette pour un traitement ultérieur en la soumettant à des températures élevées pour évaporer les solvants résiduels et améliorer l'adhérence superficielle de la résine photosensible. Dans la chambre d'exposition le photomasque requis est aligné avec la plaquette, et une lumière ultra-violette est brillée à travers le masque pour contacter-exposer le motif sur la plaquette. Un four post-exposition est ensuite réalisé dans la chambre de four post-exposition pour durcir et développer la résine photosensible. Dans la chambre de traitement post-exposition, la plaquette exposée est traitée par un agent de traitement chimique spécial qui révèle le motif photolithographique sur le substrat. TEL Clean Track Mark II Photoresist Tool est conçu pour des résultats photolithographiques précis et reproductibles. C'est un outil fiable et précis pour des opérations en salle blanche de haute qualité. C'est un atout hautement productif et efficace idéal pour tout environnement de recherche ou de production.