Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz #293628523 à vendre en France

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ID: 293628523
Taille de la plaquette: 4"
Style Vintage: 1995
(2) Developer systems, 4" (4) Hot plates, 4"/6" (2) Cooling plates, 4"/6" Chemical cabinet Temperature control unit Nozzle AC Power box 1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz Photoresist Equipment est une solution de procédé de photorésistance conçue pour la microfabrication de précision et la production à haut volume dans l'industrie des semi-conducteurs. Combinant la suppression des photorésistances de pointe avec le contrôle des procédés G3, ce système permet une plus grande homogénéité des procédés avec une répétabilité plus élevée à moindre coût d'entretien et de déchets. Le coeur de l'unité est le module d'application, qui contient les deux chambres de distribution pré-alignées. Cette configuration permet de minimiser la variabilité de distribution et supporte des résultats exceptionnellement uniformes et à haute résolution. Les chambres permettent une commutation rapide entre solvants, permettant une large gamme de flexibilité de procédé. L'étalonnage et la synchronisation automatiques de la température, du débit et de la compensation de la tension de distribution aident à maintenir des performances répétables de lot à lot. La machine comprend également une unité de commande avancée, le contrôleur Mark Vz. Cet outil intelligent offre à l'utilisateur une gamme de fonctionnalités telles que le contrôle automatisé des processus, le contrôle statistique des processus, le contrôle photo-alignement et la compensation automatique des taux de distribution plus faibles. Le logiciel embarqué améliore encore les performances grâce à ses fonctions avancées de reconnaissance des fonctionnalités, minimisant l'effet des variations de distribution et assurant un temps d'arrêt minimal. Pour une meilleure répétabilité, l'actif est conçu avec un modèle de refroidissement en boucle fermée, avec quatre capteurs de température thermiquement indépendants. Cela garantit une précision de température à 0,3 ° C, offrant les niveaux de répétabilité les plus élevés dans l'industrie. L'équipement offre également une solution automatique de changement de masque, permettant une meilleure gestion des processus et une configuration efficace de l'opérateur. Pour encore plus de performance et de précision, le système offre également des fonctions de processus physiques et électriques supplémentaires, permettant un meilleur contrôle de la sécurité, de la précision et du débit. Dans l'ensemble, TEL Clean Track Mark Vz Photoresist Unit est une solution de photorésistance haute performance et de faible entretien adaptée aux exigences de l'industrie des semi-conducteurs. En combinant une distribution uniforme, un contrôle et un contrôle avancés des processus, ainsi qu'une répétabilité et une précision accrues, cette solution offre des niveaux inégalés de performance, de qualité et de rentabilité.
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