Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz #9314130 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz est un équipement de photorésistance conçu pour la fixation rapide et précise des plaquettes. Il dispose d'une capacité de balayage haute vitesse combinée à une résolution de 100 nm, ce qui le rend idéal pour la fabrication de photomasques à un ou plusieurs niveaux. Ce système se compose d'un laser ARF à forte puissance et refroidi par eau qui tourne à une longueur d'onde de 193 nm. Il est positionné à côté d'une unité d'alignement central, permettant un alignement précis du photomasque avec la plaquette. La sortie laser ArF est délivrée à travers une colonne optique, et le motif photomasque est projeté sur la plaquette à partir de l'emplacement correspondant. Le scanner laser est incroyablement précis, ce qui permet de créer de très petites fonctionnalités sans sacrifier la précision. Il est capable d'atteindre une largeur de ligne de 200 mm avec une précision ± 10 nm. Sa vitesse de fonctionnement peut atteindre 1000 lignes/s, ce qui lui permet de produire des prototypes plus rapidement que toute autre machine de sa catégorie. En outre, la Mark Vz dispose de diverses caractéristiques de sécurité avancées. Le couvercle côté eau empêche le contact avec l'optique laser, et l'outil de protection de broche limite l'exposition laser à la plaquette. Les capteurs de sécurité éteignent le faisceau laser si le positionnement correct de la plaquette n'est pas respecté, protégeant la photomasque de tout dommage. Pour faciliter l'entretien, l'actif est équipé d'un logiciel simple d'utilisation. Il automatise de nombreuses tâches communes de maintenance et fournit des informations diagnostiques détaillées. En outre, le modèle peut être mis à jour avec le dernier logiciel, assurant une durée de vie maximale de l'équipement. Dans l'ensemble, TEL Clean Track Mark Vz est un équipement de photorésistance très sophistiqué conçu pour la fixation rapide et précise des plaquettes. Ses performances fiables, sa précision et ses caractéristiques de sécurité en font un choix idéal pour fabriquer des motifs photomasques précis.