Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track #293587658 à vendre en France

ID: 293587658
Style Vintage: 1993
System 1993 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track est un équipement de photorésistance spécialisé utilisé dans le processus lithographique pour la production de dispositifs semi-conducteurs. Le système utilise une combinaison de procédés photolithographiques et chimiques humides pour modeler de façon fiable les substrats tels que les plaquettes semi-conductrices, les écrans plats et les LCD. L'unité se compose essentiellement de trois composantes principales. Il s'agit d'un module d'exposition, d'un module de lavage et d'un module de séchage. Le module d'exposition est conçu pour effectuer des analyses lithographiques à l'aide d'une source lumineuse et d'une plaque de masquage. La source lumineuse utilisée peut être soit laser, soit ultraviolet, selon le type de plaquette. La plaque de masquage contient le motif lithographique à transférer sur la plaquette. Le module de lavage est ensuite utilisé pour éliminer le résidu de résine photosensible restant de la plaquette après sa mise à nu. Au cours de cette étape, on règle et on applique un produit chimique d'élimination/gravure de la résistance ainsi qu'un solvant (habituellement de l'eau) pour éliminer tout résidu de résine photosensible restant. Il est essentiel que cette étape soit faite avec précision pour assurer la propreté et la précision du motif. La dernière étape est le module de séchage. Cette étape permet d'éliminer toute humidité à la surface de la plaquette exposée. Là encore, il est important d'avoir des taux d'humidité très faibles afin d'assurer la précision de la lithographie. Au cours de cette étape, un agent de séchage tel que l'alcool ou l'alcool isopropylique est utilisé pour accélérer le processus de séchage. La machine photorésist de TEL Clean Track dessine rapidement et avec précision des plaquettes avec des résultats fiables. En utilisant une combinaison de procédés photolithographiques et chimiques humides de pointe, l'outil permet de créer des motifs exacts et des surfaces propres sur les substrats cibles. En outre, sa conception modulaire permet une personnalisation et des améliorations faciles afin de répondre aux besoins spécifiques de ses utilisateurs.
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