Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track #293751150 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track est un équipement de photorésistance pour le traitement des plaquettes dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. Le système est conçu pour fournir un environnement de revêtement de résistance stable et uniforme, ce qui aide à réduire le nombre de défauts de résistance causés par les sources environnementales. L'unité est composée de trois composants de base : la machine d'échappement de transport (TE), l'outil de contrôle de la zone d'uniformité (UACS), et l'actif Interlock de la zone de séchage (DAIS). Le Transport Exhaust Model (TES) maintient un environnement stable pour le processus de revêtement photorésist en contrôlant la pressurisation entrée/sortie de toute la zone de traitement. Le TES mesure la pression, contrôle le débit d'air d'entrée/sortie, fournissant un débit d'air efficace avec une faible turbulence et une contamination minimale. Le TES permet d'améliorer la distribution des particules, ce qui réduit la résistance aux défauts. L'équipement de contrôle de zone d'uniformité (UACS) est conçu pour assurer l'uniformité des revêtements de résistance sur les plaquettes. Il utilise un flux d'air uniforme pour maintenir une répartition uniforme de la résine photosensible sur la surface de la plaquette. Cela permet de réaliser des revêtements photorésistants cohérents et de grande qualité sur la plaquette, d'améliorer les rendements et de réduire les défauts. Le Dryer Area Interlock System (DAIS) est conçu pour offrir un environnement sûr pour le processus de séchage. DAIS contrôle le débit d'air d'entrée et de sortie à l'intérieur de la chambre de séchage, assurant l'uniformité du revêtement de résistance sur l'ensemble de la plaquette. Le DAIS contribue également à améliorer la sécurité en surveillant l'environnement de la chambre de séchage pour tout danger potentiel et prendra les mesures appropriées pour protéger la plaquette au besoin. TEL Clean Track est une unité de photorésistance avancée qui fournit un traitement fiable et cohérent des plaquettes semi-conductrices. La machine se compose de trois composants principaux qui travaillent ensemble pour fournir des revêtements de résistance uniformes, des rendements améliorés et moins de défauts. En contrôlant la pressurisation d'entrée/sortie, le débit d'air uniforme et l'humidité dans la zone de traitement, l'outil permet une meilleure résistance aux revêtements avec un minimum de contaminants. L'actif contribue à réduire le risque de résistance aux défauts, en garantissant des produits de meilleure qualité et des rendements améliorés.