Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380679 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 est un équipement de photorésistance utilisé pour l'application précise d'un matériau de photorésist sur une plaquette ou un substrat. Le matériau photorésist est sensible à la lumière et peut être utilisé pour créer des motifs sur le substrat pour diverses applications. Le système photorésist est constitué d'une buse et d'une tête de scanner. La buse, également connue sous le nom de spin coat unit, contient un moteur programmable pour contrôler la vitesse de rotation, la température de la buse et la résistivité pour une application précise du matériau photorésist sur le substrat. La tête de scanner est un capteur optique pour positionner avec précision la plaquette dans le dispositif de revêtement. Il utilise des lentilles télécentriques, qui réduisent la distorsion liée à l'imagerie et fournit une imagerie sans défaut. En outre, TEL CS-600 photoresist outil est équipé d'une unité de contrôle avancée, pour le contrôle et la manipulation des actifs. Il permet aux utilisateurs de régler la vitesse, la température, la résistivité et la pression souhaitées en fonction des besoins du procédé. L'unité offre en outre une fonction d'analyse du spectre, qui est utilisée pour analyser le matériau photorésist pour un dépôt approprié de matériau. TOKYO ELECTRON CS-600 est également équipé d'un contrôleur logique programmable avancé (APLC), qui est utilisé pour exécuter les tâches. Ce dispositif sophistiqué peut effectuer une variété de tâches complexes pour plusieurs étapes de processus, tout en conservant une grande précision. En résumé, CS-600 modèle photorésist est une solution efficace et fiable pour la photolithographie. Il est équipé des dernières avancées technologiques pour effectuer des dépôts photorésistants précis, reproductibles et fiables sur les substrats. Son contrôle serré sur des paramètres tels que la vitesse de rotation, la température et la résistivité assure que les substrats sont revêtus de la quantité exacte de matériau photorésist et l'uniformité.