Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9399448 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 Photoresist Equipment est un outil de traitement avancé très avancé conçu pour aider les fabricants à créer des circuits complexes et sophistiqués. Le système est idéal pour les applications numériques et analogiques, ce qui le rend polyvalent et adapté à une variété de circuits. Grâce à sa vitesse exceptionnelle, TEL CS-600 permet de réaliser des masques plus grands en une fraction du temps nécessaire auparavant. TOKYO ELECTRON CS-600 est composé de quatre composants principaux : le corps principal, la machine d'irradiation laser, le générateur de données et le programmateur LSI. Le corps principal est composé d'un moteur haute performance, d'un tableau de commande, d'un tableau de commande numérique et de matériel assorti. La source de lumière laser est utilisée pour irradier le matériau photorésistant, permettant d'imprimer des créations de circuits sur le substrat. Le générateur de données assure un contrôle précis du laser, ce qui permet d'exiger des traitements de gravure et de lithographie par immersion. Enfin, le programmateur LSI est utilisé pour adapter le comportement de la résistance à une conception réaliste et analogique du circuit. Le moteur de l'outil, qui fait fonctionner le moteur pas à pas du photorésiste et le galvanomètre du laser, est rapide et précis, permettant une production précise et efficace. Sa carte de commande et sa carte de commande numérique maintiennent une régulation étroite de la vitesse, de la direction et de l'irradiation en ligne, assurant une application précise sur le substrat. De plus, le laser CS-600 dispose d'un atout intégré d'alignement de faisceau de haute précision, qui l'aide à maintenir une précision et une précision élevées. Le modèle photorésist TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 est un outil puissant et polyvalent qui permet la fabrication de circuits avancés. Grâce à ses composants avancés, il peut graver rapidement et avec précision des impressions complexes et appliquer du matériau photorésist sur le substrat. Sa vitesse et sa précision supérieures en font un excellent choix pour les projets de conception numérique et analogique.