Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9267387 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON CS450 est un équipement de résistance photographique capable d'une large gamme d'opérations précises de mise en forme. Ce système est conçu pour exécuter des processus tels que la lithographie, le revêtement spin-on et le développement de processus de plaquettes avec précision et efficacité. Il offre une grande variété de fonctions, y compris la capacité d'atteindre même des finitions, en raison de ses capacités d'asservissement très avancées. L'unité a une conception compacte, très efficace et est facile à intégrer dans un environnement lithographique. Son interface utilisateur intuitive facilite le fonctionnement et la maintenance. Il est équipé d'une machine optique avancée qui permet une longue durée de vie du gaz de travail. Le contrôle numérique optimisé avec une vitesse d'alimentation élevée, réduit le temps nécessaire pour atteindre le modèle désiré. L'outil offre des capacités de résistance exceptionnelles, même dans les substrats difficiles. Trois types de traitement sont disponibles ; lithographie manuelle, type de dissolution et placage sans électrolyse. Tous ces processus sont exécutés avec une combinaison de haute précision et de vitesse pour obtenir les résultats souhaités. La capacité de surveillance et de contrôle de l'actif permet de surveiller et de contrôler précisément la température, l'humidité et la pression de la chambre. Cela garantit un environnement de travail idéal tant pour le processus de revêtement que pour le processus de résistance. Le modèle est équipé d'une variété de caractéristiques qui en font le choix idéal pour le développement de processus avancés. Il offre une grande variété de caractéristiques, y compris un équipement avancé de revêtement spin-on avec contrôle optimisé de la pression et de la température. Il fournit également un nombre accru d'étapes de recette, ce qui permet aux utilisateurs d'exécuter une variété de différentes opérations de revêtement et de marquage. TEL CS450 est un système de photorésistance perfectionné conçu pour obtenir des propriétés précises avec rapidité et facilité. Son ensemble polyvalent de fonctionnalités en fait un choix idéal pour le développement de processus avancés dans les environnements industriels et de recherche. L'unité peut être utilisée dans des applications telles que la lithographie, le dépôt et la gravure sur divers substrats. Son interface utilisateur intuitive, sa machine optique avancée et ses capacités de contrôle améliorées le rendent parfait pour les applications nécessitant une grande précision et des cycles de processus répétés.