Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269604 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON CS450
ID: 9269604
System CANON MPA 3000 Coater power box TFR Developer dilute system MIII UPS Coater chiller.
TEL/TOKYO ELECTRON CS450 est un équipement de photorésistance technologiquement avancé conçu pour créer des masques de lithographie utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. Le but premier du système est de transférer des motifs de diagrammes de circuits vers des photomasques avec une extrême précision. L'unité intègre une optique de projection à haute résolution, un contrôle précis de l'étage et du mouvement, une chambre de processus efficace et propre et des algorithmes sophistiqués de contrôle en boucle fermée. Ces caractéristiques lui permettent d'obtenir une excellente précision d'enregistrement image à image, ce qui en fait un outil indispensable pour la lithographie au niveau nanométrique. La machine TEL CS450 dispose d'un moteur 1600x1200 DPI de 14 microns de résolution qui offre une qualité d'image et une précision supérieures. Ce moteur léger est couplé à un outil de mise en scène X-Y de substrat de 300 mm carré capable d'obtenir une précision d'enregistrement sur trois faces de +/-15um. Cette précision permet une image précise des motifs sur les plaquettes. En outre, l'actif dispose également d'un modèle sous vide de pointe, qui est intégré avec une unité de contrôle de la propreté des gaz et un équipement de pompage à sec du dioxyde de carbone. Ce système de vide assure que la chambre ne contient que des gaz propres et inertes lors du traitement, assurant ainsi des performances de rendement élevées. En outre, l'unité TOKYO ELECTRON CS 450 intègre également une gamme de systèmes de commande sophistiqués et d'algorithmes conçus pour assurer un fonctionnement de haute précision. L'un de ces systèmes de commande est sa commande de mouvement avancée, qui permet à l'étage de positionner avec précision les plaquettes avec une précision de sous-microns. Il dispose également d'algorithmes avancés pour le contrôle du faisceau et l'étalonnage de l'exposition, qui aident à assurer l'exposition correcte et la focalisation des masques lithographiques. Enfin, la machine dispose d'une interface utilisateur complète, qui fournit un environnement pratique pour le fonctionnement et la maintenance. Au total, le CS 450 est un outil de photorésistance très avancé, capable de créer des lithomasques précis avec une extrême précision et fiabilité. Son moteur léger à haute résolution, ses moyens avancés de contrôle de mouvement, ses algorithmes de contrôle sophistiqués et son interface utilisateur complète en font un outil précieux pour la lithographie nanométrique, et ses caractéristiques en font un choix idéal pour toute application de fabrication de semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques