Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269610 à vendre en France

Le procédé de photorésistance TEL/TOKYO ELECTRON CS450 est un système avancé et robuste utilisé dans la fabrication de circuits intégrés. Au cœur se trouve un dépôt en trois étapes - couche de spin, immersion et cuire après exposition (PEB) - qui est utilisé pour déposer des films de photopolymères sur un substrat semi-conducteur. Ce film est ensuite utilisé pour transférer des motifs de circuit sur ledit substrat. TEL CS450 est un enrobeur de spin économique qui excelle en fournissant des épaisseurs de spin uniformes et précisément contrôlables, permettant une conservation fiable de l'agencement du motif. Il est également conçu pour s'assurer que les paramètres optimaux sont définis pour chaque type de matériau et chaque tâche. Cela se fait par l'utilisation de fichiers de recette prédéfinis qui peuvent être adaptés à n'importe quelle variable spécifique, comme la taille de la buse, la température de l'étage, et la vitesse de rotation. La technologie de base de TOKYO ELECTRON CS 450 est son processus d'immersion. Le film de résine photosensible est déposé précisément sur le substrat par un vide contrôlé, ce qui permet une couverture de surface complète et une qualité constante. TEL CS 450 utilise un solvant chimique spécial destiné à s'évaporer rapidement, laissant derrière lui une couche uniforme de résine photosensible à la surface du substrat. Bien que l'étape d'immersion puisse être supprimée si désiré, son utilisation garantira que le motif photorésist sera transféré sur le substrat sans laisser de défauts ou de dommages. La dernière étape du procédé de photorésistance TOKYO ELECTRON CS450 est le four de post-exposition (PEB). Il s'agit d'une étape cruciale dans le traitement des photorésistances car il contrôle les propriétés physiques, chimiques et morphologiques du film après exposition. Les facteurs de température et d'humidité relative du PEB qui sont fixés au cours de ce processus sont optimisés pour s'assurer que le film photorésist est correctement et complètement exposé, et qu'il restera stable et fiable pendant des temps de fonctionnement prolongés. Dans l'ensemble, TEL/TOKYO ELECTRON CS 450 photorésist procédé est un système hautement fiable et économique qui est prouvé pour produire des circuits avec une qualité constante et des rendements élevés. Son processus de dépôt intégré en 3 étapes assure des épaisseurs de couches de spin entièrement contrôlables, assurant une préservation fiable de l'agencement des motifs. Cette combinaison de précision et de robustesse fait de CS 450 un choix idéal pour toute application de fabrication de semi-conducteurs.