Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269618 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON CS450
ID: 9269618
System CANON MPA 3000 Exposure system Blue box and spare part included.
L'équipement de photorésistance TEL/TOKYO ELECTRON CS450 est un outil de photolithographie de pointe pour la fabrication de plaquettes semi-conductrices. Le système est composé de quatre composants principaux : le photorésist Coater Module, Expose Module, Development Module, et Stripping Module qui effectuent le revêtement photorésist, le transfert de motifs lithographiques, le développement de motifs, et le stripping photorésist respectivement. Les contrôles automatisés de l'unité permettent un revêtement optimal de la résine photosensible, assurant une couverture uniforme et répétable. Avec le logiciel dédié, une large gamme de couches peut être traitée et gérée avec précision. Les motifs d'exposition spécifiques à l'application peuvent aller de formes géométriques simples, lignes ou cercles à des microstructures sophistiquées. En contrôlant précisément les paramètres d'exposition, TEL CS450 est capable de pratiquer une conception de modèle avancée. Le Photoresist Coater Module est composé d'une série de réservoirs, d'une tête de rotation et d'un contrôleur de rotation. La tête de rotation et le contrôleur travaillent ensemble pour contrôler avec précision la vitesse de rotation et l'accélération. Une fois programmé de manière appropriée, le contrôleur distribue automatiquement la résine photosensible sur la surface de la plaquette, enrobant uniformément la surface avant le début du processus de lithographie. Le mécanisme assure également une épaisseur uniforme et limite la contamination potentielle. Le module Expose met en œuvre le contact sous vide en s'alignant avec une grande précision. La machine de poursuite ressemble à une caméra auto-focus et assure une erreur de résolution minimale et une grande précision. Le contrôleur permet un contrôle précis de la dose, de la concentration, de l'alignement, de la sous-exposition et du four. Le module de développement se compose de deux réservoirs, d'un porte-plaquettes et d'un dispositif de chauffage. Un réchauffeur périphérique intégré réchauffe la résine photosensible et désactive le four de résistance assurant les résultats de développement souhaités. Le module de décapage utilise une combinaison de plasma RF et de gravure humide pour contourner et éliminer la résine photosensible. Combinés, ces quatre procédés permettent un transfert très précis et répétable de motifs dans des surfaces de plaquettes. En contrôlant et en gérant les paramètres d'exposition, TOKYO ELECTRON CS 450 se positionne comme un outil photorésist haut de gamme à haute résolution pour la fabrication de plaquettes semi-conductrices.
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