Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269638 à vendre en France

L'équipement de photorésistance TEL/TOKYO ELECTRON CS500 est un système de lithographie avancé conçu pour permettre des procédés sophistiqués dans la fabrication de semi-conducteurs. L'unité est utilisée pour réaliser des plaquettes semi-conductrices en utilisant des photomasques d'une manière très précise. TEL CS500 dispose d'une machine d'alignement haute performance pour assurer une précision et une vitesse optimales lors de la fabrication des puces. Il est conçu pour permettre des motifs fiables et uniformes sur les plaquettes haute densité. La précision de l'outil est assurée avec une phase d'alignement de haute précision avec une capacité de résolution de 10 nanomètres pour une taille de plaquette de 4 ". L'actif dispose également d'un modèle avancé de contrôle des données pour gérer les informations de processus de wafer. Il s'interface avec l'équipement de contrôle principal pour garantir des performances précises et prévisibles. Il dispose également d'un affichage numérique haute résolution avec un éditeur de masques graphiques, permettant une inspection visuelle du processus de création de masques. TOKYO ELECTRON CS 500 dispose également d'un mode avancé sans champ magnétique (MFF) pour une autonomie de traitement ultra-large. Ce mode permet l'acquisition d'images de haute qualité en supprimant certaines distorsions qui peuvent être provoquées par des matériaux aimantés conducteurs et permanents. Le système est également équipé d'une puissante unité d'éclairage, spécialement conçue pour assurer une uniformité d'éclairage sur l'ensemble de la plaquette. Cette uniformité est essentielle pour réaliser des conceptions de puces à motifs. La machine d'éclairage comporte un éclairage coaxial asymétrique et l'utilisation d'une lentille de champ pour améliorer l'efficacité. Enfin, TEL/TOKYO ELECTRON CS 500 offre un outil intégré de surveillance des processus, permettant la vérification en temps réel de chaque plaquette à motifs. Cet outil de surveillance peut détecter des problèmes tels que des distorsions indésirables dans la conception du masque, des erreurs de CD et de focus, fournissant aux ingénieurs de processus une rétroaction immédiate sur le processus de fabrication. Dans l'ensemble, le modèle photorésist CS 500 est un équipement de lithographie avancé conçu pour le traitement sophistiqué des semi-conducteurs. Il dispose d'une large gamme de fonctionnalités pour assurer la précision, l'uniformité des motifs et la surveillance des processus, ce qui en fait un outil inestimable pour produire des conceptions de puces complexes de haute qualité.