Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269644 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON CS500 L'équipement photorésist est un système de pointe très précis conçu pour la fabrication de semi-conducteurs lithographiques. Grâce à une technologie de pointe, l'unité peut déposer avec précision et fiabilité des photorésistances sur des plaquettes et substrats semi-conducteurs avec une grande précision. La machine utilise une combinaison de têtes de distribution de dépôt assistées par laser et un four à haute température, permettant la production de motifs complexes et complexes avec une excellente précision. En utilisant le four à haute température, un processus à plus haute température est utilisé pour aider à optimiser le processus de dépôt, contribuant à assurer que la résine photosensible couche uniformément sans lacunes dans la couverture. De plus, en sélectionnant différents faisceaux laser, la commande de l'outil peut être ajustée pour aider à assurer le plus haut niveau d'uniformité et de précision au cours des processus photorésist. Au cœur de l'actif se trouve un logiciel informatique propriétaire qui contrôle avec précision et fiabilité le processus de dépôt. Le logiciel fournit divers paramètres de production qui peuvent être ajustés pour ajuster finement le processus pour répondre aux diverses exigences des clients. Il permet également d'affiner les caractéristiques du faisceau laser, ce qui permet de traiter des motifs particuliers avec une grande précision. Le modèle comprend également un équipement de cartouche avec des cartouches remplaçables pour permettre un basculement rapide et efficace des types de produits et des concentrations. Cela permet de s'assurer que les couches de photorésist peuvent être reproduites facilement et avec précision sans déviation des spécifications requises. Produit avec des technologies de traitement très précises et fiables, ce système de pointe est essentiel pour la production de plaquettes et de substrats semi-conducteurs, offrant une précision et une fiabilité supérieures. Il permet d'assurer le plus haut niveau de perfection et d'uniformité entre les substrats, dépassant les exigences des applications les plus exigeantes.