Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269701 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON CS500 est un équipement de photorésistance conçu pour l'application sur des plaquettes dans la fabrication de semi-conducteurs et de microélectroniques. Il est capable de manipuler des tailles de substrat jusqu'à 200mm. TEL CS500 offre la plus haute résolution disponible pour la microlithographie, avec la possibilité d'exposer avec des caractéristiques de sous-quartermicron. Il a un design moderne et des fonctionnalités avancées pour assurer des résultats reproductibles et fiables. Le système est conçu pour le chargement et le déchargement rapides des plaquettes, ce qui facilite la production à grande échelle. Il dispose d'un mécanisme de mouvement unique qui aligne précisément le substrat, assurant un traitement uniforme. En outre, il peut être entièrement automatisé, fournissant le moyen le plus efficace et économique de la photolithographie. TOKYO ELECTRON CS 500 utilise un appareil à base de laser pour irradier la surface de la plaquette, et la dose d'exposition est ajustable pour l'évolutivité et les performances optimales. Il est capable d'utiliser des matériaux photorésistants multiples, y compris ceux de la famille des polyméthylméthacrylates, de la famille des polyimides et de la famille des novolaques. L'unité est capable d'appliquer une large gamme de films photorésistants, en réalisant divers motifs micrométriques avec une uniformité et une couverture précises. Avec ses paramètres de processus intégrés, il peut être rapidement calibré pour obtenir les résultats souhaités. Le TEL CS 500 offre également une large gamme d'options pour affiner les paramètres de processus. Cela inclut les améliorations de fonctionnalités, telles que l'intensité ou la focalisation réglable du faisceau laser, ainsi que la capacité d'ajuster le temps d'exposition. Grâce à ces paramètres, la machine peut être configurée pour obtenir des résultats de haute qualité, indépendamment de la résistance ou du motif. CS 500 est une solution puissante et très fiable pour les applications photorésistantes, fournissant un débit supérieur et des résultats précis. Il s'agit d'un ajout précieux à toute ligne de production de semi-conducteurs ou de microélectroniques.