Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS800S #293661853 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON CS800S est un équipement de photorésistance, conçu pour le développement et la production de dispositifs au niveau des plaquettes. Il est conçu pour les procédés photolithographiques, tels que l'écriture et la gravure de masques. TEL CS800S est équipé d'un enregistreur photomasque à haute résolution, capable d'écrire 10 000 pas de tension sur un pas de 0,25 m. Il peut également être utilisé comme graveur de masque e-beam haut de gamme pour les masques ultra-haute résolution, écrivant jusqu'à 50nm de motifs de taille. Le système comprend également une unité d'inspection post-imagerie de grande surface, qui permet une inspection et une analyse rapides et précises des images de motifs. TOKYO ELECTRON CS-800S comprend un étage réglable automatiquement, offrant une précision lithographique améliorée, ainsi qu'un large éventail de fonctionnalités telles que la focalisation automatique, la spline programmable, etc. En outre, CS800S propose un « Soft Circuit Monitor (SCM) » pour mesurer les performances optiques du masque. SCM peut également détecter des défauts dans les photomasques en mesurant leur intensité aérienne totale et leur netteté de bord. En utilisant CS-800S machine, la taille maximale du motif qui peut être écrit est 8 « x 10 », avec des largeurs de ligne jusqu'à 0,05 um et des trous de contact jusqu'à 0,12. L'outil offre également une réduction 4X de la perte de polarisation, conduisant à un rendement du circuit plus élevé. En plus des fonctionnalités mentionnées ci-dessus, TOKYO ELECTRON CS800S offre également une gamme de fonctionnalités avancées telles qu'une application automatisée de résistance, une exposition rapide et des fonctions avancées de préchauffage de résistance. En outre, il est équipé d'un actif d'étalonnage automatisé, assurant un contrôle précis de paramètres tels que le déplacement de l'étage et la spline de l'étage. Dans l'ensemble, TEL/TOKYO ELECTRON CS-800S est un modèle de photorésistance hautement capable, conçu pour des processus photolithographiques à haute résolution. Avec son équipement d'étalonnage automatique, son système d'écriture laser haute résolution et son système d'inspection post-imagerie, il est adapté au développement et à la production d'appareils de niveau wafer.