Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS800S #9383288 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON CS800S Photoresist Equipment est une solution de photolithographie de pointe utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour permettre une nanofabrication de haute précision. Le système dispose d'un ensemble avancé d'optiques intégrées, permettant une plus grande résolution que toute autre unité de photolithographie disponible. Les caractéristiques résolues peuvent être aussi petites que 100nm, avec une machine typique de résolution de 5-10 microns. L'outil fonctionne selon une approche « step-and-repeat » qui consiste à l'imagerie sur film placé sur un tambour tournant, puis positionné précisément pour créer des images multiples sur un seul substrat. La source lumineuse de l'actif est un laser UV qui est facilité par un large éventail de lentilles d'intégration pour créer des motifs de haute résolution d'une manière très efficace. En plus de la résolution améliorée, TEL CS800S offre un débit élevé. Ceci est rendu possible par une approche unique de balayage en fente et une technologie avancée de traitement des précurseurs (PAAA) pour permettre des temps de processus plus rapides. Pour améliorer encore le processus, l'alignement précis est rendu possible par un modèle de métrologie optique avec une large gamme d'angles, de profondeurs et de coordonnées X-Y, minimisant les variations des motifs. De plus, l'équipement comprend un poste d'exposition à grande échelle avec de grandes ouvertures pour réduire les temps de traitement. Cette station est également utilisée pour le post-traitement afin de s'assurer que le produit final respecte ou dépasse les paramètres de qualité requis. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON CS-800S est une solution de photolithographie haut de gamme qui peut être utilisée pour créer des nanofabrications avec une résolution supérieure, un débit élevé et des temps de production améliorés. Le système est également hautement personnalisable avec des lentilles d'intégration avancées, la technologie PAAA, et la métrologie d'alignement de précision contribuant à maximiser le potentiel de l'unité. Ensemble, ces caractéristiques créent une solution de photolithographie véritablement révolutionnaire.