Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ECC2 #293808147 à vendre en France

ID: 293808147
Controller CPPC MC Rack SC2650 Compact PCI P/N: 2L80-050211-16.
TEL (TOKYO ELECTRON LIMITED) est un important fabricant d'équipements de production de semi-conducteurs et d'écrans plats, parmi lesquels le modèle TEL/TOKYO ELECTRON ECC2 est un équipement de photorésistance sophistiqué utilisé dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. Le système TEL ECC2 joue un rôle critique dans le processus de photolithographie, qui est une étape essentielle dans la fabrication des semi-conducteurs. L'unité TOKYO ELECTRON ECC2 est conçue pour déposer et modeler un matériau photosensible, appelé photorésist, sur des plaquettes semi-conductrices pour définir les motifs de circuit sur les circuits intégrés. Ce procédé comporte une série d'étapes, dont le revêtement de la plaquette par une mince couche de résine photosensible, l'exposition à la lumière UV à travers un masque contenant le motif du circuit, le développement de la plaquette exposée pour éliminer la résine photosensible indésirable, et enfin la gravure des couches sous-jacentes pour transférer le motif sur la plaquette. Une des caractéristiques clés de ECC2 machine est ses capacités de revêtement précises et uniformes, qui sont essentielles pour obtenir des motifs haute résolution avec des tolérances serrées. L'outil utilise des techniques avancées telles que le spin coating ou le spray coating pour assurer le dépôt d'une couche uniforme de photorésist sur la surface de la plaquette. De plus, l'actif TEL/TOKYO ELECTRON ECC2 intègre des contrôles de température et d'humidité pour optimiser le processus de revêtement photorésist et minimiser les variations d'épaisseur du film. En termes de capacités d'exposition, le modèle TEL ECC2 est équipé d'un dispositif sophistiqué d'alignement et d'exposition des masques qui permet un alignement précis du motif du masque sur la surface de la plaquette. Ceci assure un transfert précis des motifs de circuit sur la plaquette avec un minimum d'erreurs d'alignement. L'équipement offre également une variété de modes d'exposition, tels que la proximité, la projection ou les modes pas à pas, pour répondre à différentes exigences de lithographie. En outre, le système TOKYO ELECTRON ECC2 dispose d'un module de développement robuste qui facilite l'élimination de la résine photosensible exposée pour révéler le motif sous-jacent sur la plaquette. Le processus de développement est soigneusement contrôlé pour s'assurer que la résine photosensible est sélectivement retirée des zones exposées tout en préservant les régions non exposées. Cette étape est cruciale pour définir les caractéristiques du circuit avec précision et fiabilité. ECC2 unité est également équipée de systèmes avancés de surveillance et de contrôle qui permettent la surveillance en temps réel de paramètres clés tels que la température, la pression et la dose d'exposition. Ces caractéristiques permettent à la machine de maintenir des conditions de processus cohérentes et reproductibles, conduisant à des résultats de test de haute qualité et fiables. De plus, l'outil offre des outils de diagnostic complets et des interfaces logicielles pour faciliter le fonctionnement et le dépannage. En conclusion, TEL/TOKYO ELECTRON ECC2 photorésist actif est un outil sophistiqué et fiable pour la fabrication de semi-conducteurs, spécifiquement adapté au processus de photolithographie critique. Avec ses capacités de revêtement précises, ses unités d'exposition précises et son module de développement robuste, le modèle TEL ECC2 permet aux fabricants de semi-conducteurs d'obtenir des modèles à haute résolution avec des tolérances serrées, contribuant ainsi à la production de circuits intégrés avancés avec des performances et une fonctionnalité améliorées.
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