Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Hot plates for ACT 12 #293650996 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Les plaques chaudes pour ACT 12 sont un équipement de photorésistance conçu pour la fabrication de dispositifs microélectroniques. Il est conçu pour fournir un environnement thermique précis et contrôlé pour la croissance, l'exposition et le développement des substrats. Le système est capable de générer des températures très répétables et précises de l'ordre de 10 à 300ºC. La plaque chaude est composée d'une plaque de base amagnétique plane, conductrice thermiquement, d'une plaque chauffante supplémentaire, d'une unité de contrôle de la température (TCU) et d'une unité de compression mécanique isolée qui crée une liaison étanche entre la plaque chauffante et la plaque de base. La plaque thermique a un profil de température uniformément réparti et est construite avec une combinaison avancée de céramique basse masse thermique, de résine et d'autres matériaux pour un contrôle optimal de la température et l'uniformité. Le TCU est utilisé pour contrôler avec précision la température de la plaque chaude, lui permettant d'atteindre et de maintenir les températures cibles rapidement et avec précision. La plaque chauffante est constituée d'un dispositif de chauffage de type Peltier avec une plate-forme sur le dessus qui contient les plaques thermiques micro-pastilles et le substrat. TEL Les plaques chaudes pour ACT 12 sont exploitées à l'aide d'un contrôleur d'activité numérique. Le contrôleur d'activité dispose d'une gamme d'options pour contrôler le fonctionnement de la machine, y compris les points de consigne de température, le temps de refroidissement, le cycle marche/arrêt, la durée de refroidissement et les profils de préchauffage du réchauffeur. En outre, le contrôleur d'activité numérique comprend également des fonctions de surveillance avancées pour s'assurer que l'outil fonctionne correctement et efficacement. TOKYO ELECTRON Les plaques chaudes pour l'actif ACT 12 sont conçues pour fournir des propriétés thermiques précises et cohérentes tout en minimisant la diffusion thermique dans l'environnement environnant. De plus, le modèle offre un meilleur rendement en plaquettes, une planéité supérieure accrue et une sécurité et une stabilité environnementales améliorées pour l'opérateur. L'équipement peut également être utilisé pour des procédés tels que la lithographie, le dépôt, l'implantation, la gravure et la perfusion.