Occasion TEL / TOKYO ELECTRON LITHIUS ARF #9303277 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ISEMBLUS ARF est un type d'équipement de photorésistance développé et fabriqué par TEL, Ltd., un fournisseur leader d'équipements de fabrication de semi-conducteurs et de couches minces. Le système est conçu pour optimiser et rationaliser le processus de lithographie pour la fabrication des puces. L'unité ARF de TEL METROUS est composée de deux composants principaux : la machine ARF et l'outil de dépôt. L'actif ARF comprend un chargeur de résist automatisé (ARL), un développeur de résist automatisé (ARD) et un robot d'inspection de wafer (WIR). L'ARL charge les plaquettes sur l'ARD, qui dépose alors la photorésist requise à partir de paramètres définis par l'utilisateur. Le WIR effectue alors une inspection de chaque plaquette pour vérifier que la résine a bien été déposée et que la qualité de la surface de la plaquette est satisfaisante. Le modèle de dépôt se compose d'une broche micrométrique pour un contrôle précis de l'épaisseur du film, d'une chambre de réaction pour le contrôle de l'environnement réactionnel, d'un module de préexposition et de post-exposition pour un réglage précis de l'intensité lumineuse, et d'un équipement d'échappement pour le traitement semi-continu d'un maximum de 25 plaquettes. Le système de dépôt utilise des algorithmes avancés de contrôle des dépôts pour assurer une résistance uniforme à l'épaisseur sur chaque plaquette. La combinaison de l'unité ARF et de la machine de dépôt permet des expositions cohérentes et de grande qualité de la résine photosensible, avec un contrôle serré de la température de réaction et un contrôle de précision sur le degré d'exposition. La chambre de réaction est également conçue pour minimiser les contaminants et maximiser les rendements. L'outil utilise un outil de chargement « juste à temps », ce qui réduit les temps d'arrêt inutiles en veillant à ce que les plaquettes ne soient pas laissées exposées à l'atmosphère pendant de longues périodes. De plus, l'ARF TOKYO ELECTRO-US peut être facilement intégré à d'autres systèmes, tels que les steppers, les scanners et les recaleurs, ce qui le rend bien adapté pour une utilisation dans des environnements de production à haut volume. L'ARF est l'un des systèmes photorésistants les plus avancés disponibles, offrant une précision, une fiabilité et des performances supérieures dans un ensemble efficace et rentable.