Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius i #9215227 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON i est un équipement de photorésistance conçu pour répondre aux besoins des applications de photolithographie. Il utilise un système avancé d'enrobage de spin pour appliquer une fine couche de photorésist liquide sur une plaquette de silicium. La résine photosensible est ensuite exposée à la lumière UV, ce qui active les molécules sensibles à la surface de la plaquette, les faisant réagir pour former une image. Après exposition, la résine photosensible est ensuite exposée à un solvant, parfois appelé « révélateur », qui aide à éliminer sélectivement les parties exposées de la couche de résine photosensible et à laisser derrière elle les parties restantes non exposées. L'unité de photorésistance de TEL Metrous i offre un large éventail de fonctionnalités conçues pour rendre les processus de photolithographie efficaces et rentables. Il est équipé d'une machine d'imagerie thermique haute résolution pour assurer un développement précis de l'image. En outre, il dispose d'un outil avancé de manutention des plaquettes qui permet une utilisation maximale des surfaces des plaquettes tout en assurant des taux de défauts faibles. En termes de sécurité, l'actif est conçu pour protéger les opérateurs contre l'exposition à des produits chimiques nocifs. TOKYO Electron i est adapté à une variété d'applications de photolithographie, y compris la microélectronique, la biotechnologie et les systèmes optiques. Son modèle de revêtement de spin offre une grande précision et uniformité, ce qui donne des rendements élevés et des résultats d'essai de haute qualité. Ses systèmes avancés de manutention des plaquettes et d'imagerie thermique permettent également à l'équipement de réaliser des processus extrêmement précis et précis. De plus, le système est conçu pour être facile à utiliser et à entretenir. En conclusion, la photorésist est une unité fiable et avancée adaptée à une variété de procédés de photolithographie. Sa machine d'enrobage assure un enrobage uniforme et uniforme des films photorésistants tandis que ses systèmes d'imagerie thermique et de manutention des plaquettes assurent précision et précision. L'outil est également conçu pour maximiser la sécurité et l'efficacité, ce qui donne des rendements élevés et d'excellents résultats d'essai.