Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius i #9283134 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON i est un équipement de photorésistance utilisé pour remplacer les procédés traditionnels de photolithographie. Il peut être utilisé pour créer des structures de ratio d'aspect élevé, jusqu'à moins de 1:1. Le système se compose d'une tête d'exposition, d'une plaque de quartz et d'un processeur photorésist. La tête d'exposition utilise la lumière UV-Visible pour effectuer le processus photolithographique. Cette unité est préférée pour sa précision supérieure, son rapport de contraste élevé et le haut niveau de réflectivité qu'elle offre. Pour des applications telles que la photolithographie pour les emballages de niveau IC/COS et wafer, la tête d'exposition est simplement placée sur le dessus du processeur photorésist puis reliée par automatisation à la plaque de quartz. Ensuite, le processeur photorésist fournit le matériau nécessaire à la plaque de quartz et l'expose selon le motif nécessaire. La tête d'exposition utilise également une machine de focalisation optique avancée, qui aide à fournir une distribution d'intensité égale pour des résultats optimaux. Une fois le motif désiré exposé sur le matériau photorésist, il est ensuite transféré sur le substrat sous-jacent. Pour s'assurer que ce matériau ne colle pas sur la plaque de quartz, la tête utilise une technologie de contact tactile. Ceci réduit la contrainte sur le matériau photorésist qui permet d'éviter les pics ou ombres indésirables formés lors du transfert. TEL Metrous i offre également plusieurs autres avantages. Il dispose d'un outil de nettoyage intégré, permettant une contamination croisée minimale et fournissant des résultats d'impression supérieurs. En outre, il a une faible consommation de résine photosensible, fournissant un résultat d'exposition maximum possible à un coût moindre. Par rapport à la photolithographie traditionnelle, TOKYO ELECTRON i asset offre une vitesse et une technologie d'automatisation accrues. Ses fonctions uniques lui permettent de produire des structures avec des rendements améliorés, précision, reproductibilité et durabilité. Toute cette efficacité opérationnelle fait de ce modèle photorésist l'un des processus les plus polyvalents et rentables disponibles aujourd'hui.