Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius i+ #9384058 à vendre en France

ID: 9384058
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2012
Track system, 12" 2012 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON i + est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour des applications dans les domaines de la photolithographie. Il fournit des performances optimales dans les opérations de fixation de plaquettes de haute précision pour une variété de processus de microfabrication. Le système offre une gestion automatisée des substrats, une résistance au revêtement et à l'exposition, un développement rapide et un contrôle de la propreté. TEL Metrous i + offre une précision extrême pour les opérations de micropatterning. Il dispose d'une tête laser de haute précision avec précision de haut niveau et répétabilité, une unité de dictage avancée pour le placement automatisé du substrat, et une machine de revêtement de résiste qui peut traiter une large gamme de résistances. De plus, l'outil dispose d'un échantillonneur intégré pour la vérification de haute précision des motifs exposés et du gâteau post-exposition (PEB). TOKYO ELECTRON (TOKYO ELECTRON i +) permet des processus de photolithographie plus rapides en permettant un développement précis et rapide de la photorésist, couplé à une unité spéciale de nettoyage des substrats pour empêcher les particules résiduelles d'adhérer aux substrats. En outre, l'actif peut précisément mesurer et contrôler la concentration de résist et distribuer de la résistance chimique. L "éco-interface i + dispose de diverses fonctionnalités de sécurité avancées, dont un capteur à surintensité, un moniteur de rayonnement et des emboîtements commandés par logiciel. Il dispose également d'une interface conviviale et de fonctions personnalisées, qui permettent de surveiller, gérer et ajuster facilement les opérations. En outre, le modèle est équipé d'un équipement d'acquisition et d'analyse de données en temps réel qui permet un retour rapide et facile au processus de production. Dans l'ensemble, TEL/TOKYO ELECTRON i + est un système de photorésistance avancé qui offre des performances optimales dans les opérations de fixation de plaquettes de haute précision. Il est doté d'une gestion avancée des substrats, d'un traitement rapide et d'un contrôle précis de la concentration et de la distribution des résistances. En outre, l'unité est équipée d'une interface conviviale, de fonctionnalités de sécurité intégrées et de fonctions personnalisées qui la rendent idéale pour une variété de processus de production dans un large éventail de domaines.
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