Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius i+ #9407206 à vendre en France

ID: 9407206
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Coater / Developer system, 12" CIM: SECS, GEM Process: 193 nm Immersion BWEE (11) HCP (25) CPHP (3) DEV (3) ITC (3) ADH (5) BCT (4) COT (4) FOUPs (2) Solvent cabinets (2) SHINWA Temperature and Humidities Power box DEV Cabinet Handler system: SIM ITR CRA IRAM MRA (3) PRA Missing parts: (2) ADI ITC (2) CPHP Bad plates COT 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON i + est un équipement photorésistant de nouvelle génération utilisé pour le processus de lithographie de dispositifs semi-conducteurs avancés. Il est capable de performances d'imagerie avancées, ainsi que d'augmenter la productivité et d'améliorer les taux de rendement. TEL Metrous i + fournit un système d'imagerie avancé pour les processus avant et arrière, ce qui permet de créer des plaquettes à haute résolution avec une largeur de ligne minimale de 0,3 um. Il est livré avec une unité d'alignement entièrement automatisée qui fonctionne rapidement et précisément, et peut traiter jusqu'à 4 plaquettes en même temps. La machine dispose également de systèmes avancés de contrôle du mouvement et de la température, qui permettent un écoulement continu et lisse pendant le processus de lithographie. Les photorésistances utilisées dans TOKYO ELECTRON IN I + sont conçues pour améliorer les performances lors de la lithographie et permettre la création de caractéristiques plus petites. L'outil peut également détecter et corriger les erreurs potentielles au cours du processus de lithographie, ce qui permet d'augmenter les rendements et d'améliorer les taux de production. L'actif est équipé d'un contrôle thermique avancé, permettant un traitement stable des plaquettes indépendamment de leur taille et de leur complexité. Son modèle optique avancé permet une résolution précise et une manipulation de contraste au niveau moléculaire. Le niveau d'automatisation avancé de l'équipement assure des opérations rapides et précises de l'alignement à l'exposition. Le système comprend des outils d'alignement optique et laser pour assurer des positions précises des plaquettes pour une résolution maximale. Ses systèmes de surveillance interne permettent de détecter toute aberration causée par des impuretés, ce qui procure un degré élevé de confiance dans l'exactitude des résultats. Les données produites par l'unité peuvent également être utilisées pour générer des rapports automatisés de contrôle de processus, qui fournissent des données précieuses pour améliorer la précision et le rendement du processus de lithographie. Enfin, la machine est compatible avec une grande variété d'autres systèmes, offrant des intégrations transparentes et la rendant facile à utiliser.
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