Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius Pro V-i #293603567 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Le Pro V-i est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour répondre aux besoins de lithographie de la plus haute précision. Les systèmes photorésist sont incroyablement importants pour l'industrie des semi-conducteurs car ils permettent la gravure des caractéristiques dans divers matériaux. TEL Metrous Pro V-i utilise l'exposition au projet pour créer un motif à partir d'un masque donné. Pour ce faire, on utilise un générateur de motifs, qui utilise une technologie révolutionnaire de vanne de lumière à réseau (GLV) pour produire jusqu'à 8,5 nanomètres de résolution à une dose d'exposition de 12,0 mJ/cm2 dans ces lignes de 40 nm. De plus, le Pro V-i utilise le contrôle d'ouverture numérique variable (VNA) et le contrôle de cohérence du système d'éclairage de cohérence partielle pour obtenir une précision de recouvrement optimale. Le Pro V-i offre également une précision d'exposition améliorée avec un maximum de ± 1 nm de surveillance focale et une mesure de dose ± 1 mJ/cm2. En outre, le Pro V-i supporte un certain nombre de procédés tels que la cendre, le nettoyage et la cuisson du matériau de résistance. L'unité offre également une protection complète contre la surcharge de puissance de la machine de balayage, de l'outil d'exposition et du manipulateur, assurant que l'équipement n'est pas endommagé par des surcharges. Le Pro V-i dispose également d'une gamme de fonctionnalités supplémentaires telles que son électronique de contrôle avancée, qui fournissent des fonctionnalités telles que des alarmes personnalisables, des paramètres de sécurité et l'archivage de données, ainsi qu'un large éventail d'interfaces pour une automatisation accrue des actifs. Enfin, le Pro V-i comprend une interface de contrôle de mise au point automatisée pour une meilleure précision de mise au point, et un ensemble de tablettes de masque amovibles pour l'enlèvement propre des masques entre les expositions. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON EMPRISONNUS PRO VI est un modèle photorésist incroyablement avancé conçu pour les besoins de lithographie de la plus haute précision. Sa gamme de fonctionnalités et sa conception conviviale en font un outil polyvalent et fiable, ce qui en fait un choix idéal pour l'industrie moderne des semi-conducteurs.