Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithus #9290887 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Lithus est un équipement de photorésistance conçu pour permettre la lithographie haute définition dans la fabrication de structures nanométriques. Ce système est capable d'atteindre une résolution de 10 nm, ce qui le rend idéal pour la production à grande échelle de circuits intégrés (LSI) ainsi que pour les applications de recherche et développement à nano-échelle. L'unité consiste en une machine qui utilise une lentille optique pour projeter la lumière à travers un film de résine photosensible qui recouvre le substrat. L'outil est calibré pour diriger la lumière à un angle spécifique, créant un motif de photorésist éclairé. La photorésist est un matériau sensible à la lumière qui réagit différemment lorsqu'il est exposé à la lumière. En faisant varier la composition et l'exposition de la résine photosensible, on peut contrôler la chimie du motif qui sera réalisé sur le substrat. L'actif peut être encore ajusté avec un certain nombre de fonctionnalités avancées, y compris la capacité de contrôler l'intensité lumineuse, l'inclinaison de la lentille, ou même de générer des motifs à partir d'une source externe. Ces fonctionnalités permettent à l'utilisateur de créer des modèles plus précis en fonction de ses besoins. Le modèle est en outre équipé d'un étage motorisé de réglage de substrat, qui peut également être utilisé pour optimiser le substrat pour une résolution optimale. L'équipement TEL Lithus fournit également un système de positionnement automatisé des substrats qui aide à surveiller la précision du placement des substrats pendant le processus d'exposition. Cela permet aux utilisateurs d'obtenir un alignement précis sur les tolérances nanométriques. L'unité est en outre conçue pour avoir un débit élevé, avec des capacités de traitement automatique, permettant à l'utilisateur de traiter un grand nombre de substrat. En outre, la machine peut être utilisée pour contrôler la qualité des motifs qu'elle génère, tout en fournissant une interface conviviale pour un fonctionnement facile. L'utilisateur peut configurer rapidement les paramètres du processus, et l'outil est capable d'ajuster automatiquement les paramètres pendant le fonctionnement en fonction des résultats souhaités. En outre, des analyses avancées telles que FRAP (récupération de fluorescence après photoblissage) et EELS (spectroscopie de perte d'énergie électronique) suivant le processus d'exposition peuvent également être effectuées à l'aide de l'actif. Dans l'ensemble, le modèle TOKYO ELECTRON Lithus est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour créer des modèles haute définition pour des applications à nano-échelle. La combinaison de ses fonctionnalités avancées et des capacités d'automatisation rendent ce système très efficace pour créer des photomasques de haute précision et produire des nanostructures de haute qualité avec une précision supérieure.