Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9006831 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON L'équipement de photorésistance Mark 7 est un outil de précision utilisé dans les dispositifs microélectroniques et les dispositifs semi-conducteurs. Il est utilisé pour le transfert rapide et précis de motifs photomasques dans les semi-conducteurs et les plaquettes. Le transfert se fait via un système d'imagerie, qui utilise la lumière pour former un motif sur les plaquettes. L'unité utilise des optiques haute résolution et des sources lumineuses avancées pour l'imagerie précise. La machine est capable de résoudre des caractéristiques inférieures à 0,2 μ m, soit environ 1/20e de diamètre d'un cheveu humain. Ceci est très important pour les dispositifs de haute précision tels que les mémoires semi-conductrices et les GPU. L'outil utilise également du matériel et des logiciels avancés pour s'assurer que les photomasques utilisés sont alignés avec précision sur les plaquettes, de sorte qu'aucune lumière ne s'échappe d'aucune zone. TEL MARK7 photorésist actif est capable d'exposition rapide de photomasques de grande surface. Cela réduit considérablement le temps et le coût de production pour les processus de production à grande et à petite surface. Le modèle est également équipé d'un équipement d'auto-alignement et de contrôle de focalisation, ce qui garantit que toutes les caractéristiques des motifs sont traitées avec précision et que les plaquettes sont propres et sans défaut. De plus, le système photorésist TOKYO ELECTRON MARK-7 offre une excellente répétabilité, ce qui signifie que les mêmes plaquettes peuvent être traitées plusieurs fois avec les mêmes résultats. C'est très important pour une production à haut volume. Enfin, l'unité offre également une compatibilité avec les matériaux de traitement humide standard, y compris une variété de photorésists, solvants de photorésist, développeurs, décapants, nettoyants, et solutions de gravure. En résumé, la machine de photorésistance TEL/TOKYO ELECTRON MARK7 est un instrument de précision conçu pour le transfert précis de motifs photomasques dans les plaquettes utilisées en microélectronique et semi-conducteurs. Il dispose d'une optique haute résolution, de sources lumineuses avancées et de systèmes d'auto-alignement et de contrôle de focalisation pour un traitement précis des motifs. Il offre également une exposition rapide des photomasques de grande surface et une excellente répétabilité, et est compatible avec les matériaux de traitement humide standard.