Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #293662824 à vendre en France
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TEL/TOKYO ELECTRON MARK II est l'un des systèmes photorésistants les plus avancés sur le marché. Il est utilisé pour créer des motifs lithographiques sur un substrat, typiquement un semi-conducteur. Pour ce faire, l'équipement TEL MARK II utilise deux composants principaux : une source de lumière ultraviolette et une lentille de lithographie projective. La source de lumière ultraviolette est utilisée pour irradier un matériau photorésistant sensible à la lumière qui enveloppe le substrat. La lentille de lithographie projective est ensuite utilisée pour focaliser cette lumière sur le substrat, créant un motif très précis sur la surface. Le système TOKYO ELECTRON MARK II est conçu pour des applications nécessitant un contrôle serré de l'irradiation lumineuse et une définition précise du motif. Le photomasque est balayé de manière haute résolution pour assurer une définition optimale des motifs, et la source lumineuse utilisée est conçue pour une cohérence maximale. De plus, la résine photosensible peut être automatiquement distribuée sur le substrat selon différents motifs, ce qui permet un contrôle complet de la définition du motif. L'unité MARK II est conçue pour être entièrement intégrée, offrant une solution compacte, efficace et rentable pour les procédés de photorésistance. La photomasque peut être changée sans avoir besoin d'ouvrir l'unité, et la machine comprend des options de sortie d'image pour la comparaison de motifs et l'archivage des résultats. L'outil est contrôlé par un atout d'automatisation sophistiqué, permettant une configuration rapide et facile des recettes et des opérations. Une gamme d'accessoires est également disponible avec le modèle TEL/TOKYO ELECTRON MARK II, y compris des slitters automatisés, des biseaux de bord et des spinners. Ces accessoires permettent d'assurer la précision et la répétabilité du processus photorésist. L'équipement de photorésistance TEL MARK II est également entièrement compatible avec les systèmes avancés de contrôle des processus, tels que le logiciel de traitement de signal EDAX, ce qui permet de perfectionner et de contrôler le processus de photorésistance. Dans l'ensemble, le système photorésist TOKYO ELECTRON MARK II est une solution automatisée très avancée pour les processus de photolithographie avancés. L'unité est conçue pour la précision et la répétabilité, et avec ses caractéristiques, ses accessoires et sa compatibilité avec les systèmes avancés de contrôle des processus, offre la flexibilité nécessaire pour des applications de lithographie complexes et exigeantes.
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